- 光刻工艺的成本光刻胶的数量；Nc是一年中旋涂的晶圆数；Ng是一年中曝光的晶圆数。Cm是掩模版的花费；Nwm是掩模版所能曝光的晶圆数目。上式把光刻工艺中设备、材料、场...2018-07-25 08:40:00
- 现代光刻工艺研发各部分的职责和协作er owner及工艺集成工程师讨论，做出kerf设计，并tapeout掩模版掩模管理mask-management1.协调订购、接收掩模版。对掩模版...2018-07-12 09:55:41
- 光刻胶材料少核心技术。PR作为一层薄膜涂覆到基片上（如硅上面的二氧化硅上），再通过掩模版曝光。掩模版要保持干净，并含有要转印到衬底上的不透明图形，以便在PR层上...2018-06-05 08:50:37
- 一文看懂光刻机剂洗掉，从而该部分硅片不会在后续流程中被腐蚀掉，负性光刻光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。在硅片表面构建半导体器件的过程正性光刻与负性光刻相反，曝光部...2018-05-16 08:59:54
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍光过的光刻胶已交联形成网状聚合物，因此显影液对它基本没有溶解作用，形成与掩模版相反的微结构图形。SU-8胶结构与显影条件和工艺参数密切相关，容易出现显...2018-03-09 08:47:59
- Nikon光刻机对准机制和标记系统研究些研究单位也使用Nikon公司的G线,1线光刻机。熟悉和掌握与之相配合的掩模版设计技术，是更好地使用这类设备的关键。1.Nikon系列光刻机对准机制国...2018-01-31 09:33:17
- SU-8 光刻胶及光刻工艺中它的自平 整能力, 因此也去除了边缘的水珠效应。结果在 接触式光刻中使掩模版和光刻胶之间有良好的接 触。该胶经 100 e 以上固化后, 已经交联的...2017-08-31 11:32:06
- 新途径！无需光刻胶，多种纳米材料通过光刻形成图案：它利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模版上的图案刻制到被加工表面上。 其大概过程如下：首先，让紫外线通过印着芯片...2017-08-03 16:41:44
- 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状敏感性，可利用其进行光化学反应，经曝光、显影等过程，将所需要的精细图形从掩模版转移至待加工的衬底上，然后进行蚀刻等工艺加工。光刻胶是微制造领域最为重要...2016-11-29 16:48:28
- 光刻胶成分及其应用电路g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、掩模版光刻胶等其他用途CCD摄像头彩色滤光片的彩色光刻胶、触摸屏透明光刻胶、M...2016-11-01 14:31:03
