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  • 硅微通道芯片的客户要求。优点:1. 通道表面结构良好;2. 易于集成;3. 半导体硅基材质。加工规格:1. 酸/碱法腐蚀硅片宽深比接近2:1;2. 通道表面粗糙...2020-01-08 10:17:32
  • 汶颢股份产品目录(2018年)(电磁阀、转向阀、单向阀)3. 微流控芯片加工耗材  3.1 微流控芯片基材系列(硅片、玻璃片、PMMA板、PC板、COC板)  3.2 微流控芯片...2018-01-03 10:39:46
  • WH-2000B 真空热压键合机(硅基)了温控范围、升级了温度控制设置程序,用于玻璃、硅片、晶圆、蓝宝石、石英等基材的中低高温键合,是国内第一款硅基热压键合加工专用设备。WH-2000B真...2023-11-03 16:14:45
  • 用于丝状真菌抗真菌分析的液滴微流控平台(下)具,通过紫外线照射和随后的显影(SU-8显影液)。将固化剂添加到PDMS基材至终浓度为10%(w/w),混合,倒入模具上。真空脱气后,将模具在65°...2024-05-16 11:26:02
  • 匀胶机旋涂仪常见问题及维护措施然难免也会遇到一些故障问题,下面分享几个常见的故障问题以及如何维护,包括基材污染、颗粒污染、化学污染。1、基材受污染 受污染的基材可能不会完全破坏您...2024-05-13 11:21:58
  • 匀胶机旋涂法制备复合材料薄膜膜。2、基板准备:准备用于涂覆的平坦基板,通常是硅片、玻璃片或其他光滑的基材。清洗和处理基板以确保其表面干净,并可能进行表面处理以提高薄膜附着性。3...2024-05-06 15:33:25
  • 光刻胶刻胶光刻前清洗工艺:为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:18:53
  • 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:12:32
  • Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:11:49
  • Mirochem SU-8光刻胶 3000系列光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:10:32