- 汶颢芯片硅片模具使用注意事项，影响浇注；可用无尘布蘸取丙酮或乙醇小心进行擦拭，防止损坏；注意不可接触光刻胶图形。八、PDMS混合时，需混合均匀且脱气之后再进行浇筑。九、浇注PDM...2016-09-27 13:42:47
- SU-8光刻显影工艺介绍 SU8光刻胶 SU8显影...2016-08-31 10:04:12
- 光刻机工作原理和组成片上的电路图（即芯片）。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可...2016-08-24 11:03:30
- 微流控芯片制作与修饰ment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序Photolithogra...2016-05-27 13:53:09
- 微流控芯片单层模具加工工艺中，滴入1~2滴修饰试剂HMDS，挥发处理时间≥3min；三、硅片甩胶将光刻胶倒在处理后的硅片上（注意避免气泡存在）。按照预定图形高度，设定匀胶机转速...2016-04-29 14:44:58
- 微流控PDMS芯片加工工艺，结束制作。整理加工台面。 注：所需仪器：电热板、匀胶机、烘胶台；耗材：光刻胶、显影液、硅片等。注：上文中提及的相关仪器：真空脱泡搅拌机、恒温干燥箱、...2016-04-26 16:45:13
- 光刻机的简单介绍ment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithogr...2016-04-18 11:54:16
- 光刻技术 光刻技术是指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（又称光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。其主要过程为：首先紫外光通过掩膜版照射到附有一层光刻胶薄膜的基片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应；再...2016-04-05 11:54:05
- 光刻机的“曝光模式”分类Contact Printing）：
掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据...2015-02-13 15:49:15
- 光刻机的分类 一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序Photolithogr...2015-02-13 15:17:06
