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- 一文看懂光刻机要根据芯片的设计目的进行逻辑设计和规则制定，并根据设计图制作掩模以供后续光刻步骤使用。 IC 制造实现芯片电路图从掩模上转移至硅片上，并实现预定的芯...2018-05-16 08:59:54
- URE-2000/A8紫外单面光刻机；（13）曝光方式：定时（倒计时方式0.1s—9999.9s）；（14）光刻版夹具兼容性（15）具有盲曝粗对准功能。2．技术主要组成部分（1）曝光头...2018-05-02 13:42:31
- URE-2000/30型光刻机9个透镜）、i线滤光片、场镜、冷光反射镜1、反射镜2（2）对准工件台l 光刻机底座l 工位切换台（气缸）l 掩模样片整体运动台l 掩模样片相对运动台...2018-05-02 13:33:01
- URE-2000/17型光刻机（台式）URE-2000/17型紫外深度光刻机技术特点： 采用双目双视场显微镜对准；球碗调平,单片机控制,触摸开关,操作方便、实用性强。 1．技术参数l 曝光面积：4英寸l...2018-05-02 13:27:42
- SU-8光刻：旋涂机如何选择正确的旋涂机（匀胶机）用于SU-8微流控模具的光刻技术？旋涂机（匀胶机）用于微流控模具的光刻，以 在基底上涂覆光致抗蚀剂层（例如SU-8）。它们适用于各种光刻胶，因此对于SU-8光刻应用来说，验...2018-04-03 10:57:43
- 软光刻技术：SU-8涂层Tips:汶颢提供微流控芯片模具及软光刻相关设备，如匀胶机（又叫旋涂机等）、烘胶台、SU-8系列光刻胶及显影液产品和相关技术输出服务。在软光刻技术中，通常用SU-8模具复制PDMS微流...2018-03-16 09:26:49
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍Tips:汶颢提供不同型号正/负性光刻胶和相关加工设备。SU-8光刻胶以其优异的机械性能、良好的热稳定性和耐腐蚀性，具有自整平、对近紫外光敏感且吸收极小等优点，在MEMS (micr...2018-03-09 08:47:59
- Nikon光刻机对准机制和标记系统研究步进式重复曝光光刻机出现于上世纪80年代早期，从那时起直至90年代后期出现第一台准分子激光光刻机商品为止，各种各样的G线、I线光刻机统治了集成电路制造中的光刻工艺...2018-01-31 09:33:17
- 【光刻百科】抗反射涂层 Anti-Reflection Coating (ARC)涂层(Anti-Reflection Coating, ARC)是旋涂于光刻胶与Si衬底界面处以吸收光刻反射光的物质[1] 。抗反射涂层主要包括：底...2018-01-15 09:26:04
