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- 光刻胶的主要技术参数 Critical Dimension）来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。 b、对比度（Contrast）。指光刻胶从曝光区到非...2022-06-30 16:46:37
- 光刻胶性能要求性能 主要应用于刚性或柔性物体表面的微纹(纳米结构)复制，因此要求所用的光刻胶的厚度通常为几十至几百纳米，只有高质量的光刻胶薄膜才能获得理想的图形。...2022-02-26 23:21:06
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- 光刻技术种类及光刻胶的分类热压印技术及热压印光刻胶热压印顾名思义在整个过程具有加热的处理，于是要求用于压印的基材、模板等具有高的耐热性能，同时使用的光刻胶也需要具有所需要的热性能。热压印过程中...2021-12-30 15:50:44
- PDMS芯片加工过程:使用SU-8模具进行PDMS的光刻复制PDMS光刻复制的过程：提示和技巧PDMS是在微流体领域内被广泛使用的一种聚合物，它经常被用于制造微流体器件如lab on chip。每年，有许多实验室开始...2021-12-10 16:49:55
- 3D打印软光刻法制备复杂分区微流体神经装置，为帕金森病的体外研究提供了平台，避免了手动后处理的需要，同时提高了系统的生物相容性。图1.3D打印的软光刻技术，用于复杂的分区微流体神经装置分区微流体神经装置是神经微环境研究中的...2020-09-17 16:18:42
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