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- 一文了解SU-8光刻胶光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过...2023-07-25 08:58:21
- 软性光刻用3D打印模具的溶剂萃取二甲基硅氧烷(PDMS)可以快速成型具有微尺度特征的部件，而不需要传统的光刻。传统的光刻之后的软光刻涉及使用硅衬底和光掩模，这可能是昂贵的并且可能需...2023-01-13 13:11:16
- PDMS在生物研究中的应用--生物研究领域PDMS光刻技术综述PDMS在生物学研究中的应用PDMS在生物学研究中，更确切地说，PDMS的生物相容性是当今生物学研究许多领域中的一个重要参数，因为微流体和微流控芯片是...2022-12-08 11:10:50
- 软光刻：SU-8烘烤教程（适用于烘胶台）模，将作为PDMS铸造的模板。在SU-8母版的制作过程中，通常是基于标准光刻工艺，SU-8光刻胶的薄膜必须烘烤几次，如图1所示。图1:用于制作SU-...2022-12-06 09:05:42
- 光刻机是光刻工艺的核心设备 光刻机(lithography)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过...2022-11-22 08:50:23
- 光刻机——现代光学工业之花光刻机——现代光学工业之花光刻机，被称为现代光学工业之花，制造难度非常大，全世界只有少数几家公司能够制造。其售价高达7000万美金。用于生产芯片的光刻...2022-11-17 09:58:03
- 什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。 负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显...2022-10-18 08:22:43
- 光刻胶的特性及工艺流程（1）灵敏度光刻胶上产生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值。光刻胶的敏感性对于深紫外光、极深紫外光等尤为重要。单位面积上入射的使光刻胶全部发生反应的最小光...2022-09-23 08:42:39
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺光刻工艺 光刻工艺是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ，工艺如下 ： ①仔细地将基片洗净; ②在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ，例如铬、二氧化硅、氮化...2022-09-22 08:49:07
