站内搜索

• 微流控SU-8光刻胶烘烤注意事项在微流控PDMS芯片加工的过程中，需要使用热板对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤：...2017-12-18 08:52:46
• 基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术基于SU-8光刻胶的PDMS倒模加工技术。通过使用传统的光刻方法，以SU-8光刻胶作为模具，可以制作基于PDMS材质的微流控芯片。特点是加工精度高，通道深...2017-10-16 13:30:50
• SU-8光刻胶光刻工艺SU-8光刻胶工艺路线及工艺流程1) 对衬底进行清洗，并在200℃烘30分钟以上以去除表面水分子2) 用厚胶甩胶工艺在基片表面旋涂所需要厚度的SU-8...2017-10-09 17:36:09
• SU-8光刻胶的光刻工艺 新型的化学增幅型负像SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，十分适合于制备高深宽比微结构，因此SU-8胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶。它在近...2016-11-28 10:30:08
• 汶颢股份产品服务一览表（2020）选单元、液滴生成单元、其他功能单元。微流控芯片加工光刻工艺：硅片表面SU-8光刻胶加工能力、玻璃湿法腐蚀加工能力、硅片干法刻蚀加工能力。注塑成型工艺：...2020-04-16 17:20:54
• 微流控分析芯片、液滴微流控芯片以及其他功能单元3.微流控芯片加工光刻工艺：硅片表面SU-8光刻胶加工能力、玻璃湿法腐蚀加工能力、硅片干法刻蚀加工能力等。注塑成型工艺...2018-11-16 15:58:38
• 光刻胶SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题，在近紫外光（365nm-400nm）范围内光吸收度很低，且整个光刻胶层所获...2024-03-28 10:18:53
• 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。SU-8光刻胶的优点1、SU-8光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内...2024-03-28 10:12:32
• Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75选择合适的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影，随后用氮气吹干。SU-8光刻胶的优点1、SU-8光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内...2024-03-28 10:11:49
• 如何加工一个微流控芯片的环氧树脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧模具加工的顺序如下所示：   1、准备晶片/圆片   2、 旋涂负性SU-8光刻胶   3、 软烤（光刻胶的第一次烘烤）   4、 边缘光刻胶的去除（...2023-07-28 08:53:56