- SU-8光刻胶光刻工艺光刻胶进行前烘处理,在热板上缓慢冷却4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式曝光5) 对曝光后的SU-8光刻胶在热板上进行后烘热处理...2017-10-09 17:36:09
- 光刻胶模具加工工艺刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有：匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶、显影液 3.光刻...2017-10-09 17:14:32
- 普适型纸芯片的研究与应用采用喷蜡打印、喷墨打印/喷墨溶剂刻蚀、融蜡浸透、绘图、丝网印刷、柔印、紫外光刻，以及激光处理等技术制作疏水图案。Whitesides研究组和Lin研...2017-10-09 17:03:44
- 微流控纸芯片(纸基微流控芯片)加工技术及应用领域素和聚合物组成的离子交换纸和复合纸也可作为基底材料。③纸芯片的加工技术紫外光刻、蜡印、等离子体处理、喷墨打印、喷墨蚀刻、绘图模拟仪绘图、丝网印刷、柔...2017-08-23 09:48:03
- 面对垄断，自主研发高端光刻机实现国产化替代势在必行办理办公室安排专家，在我国科学院长春光学精密机械与物理研究所召开了“极紫外光刻要害技能研究”项目检验会。评定专家组充分肯定了项目获得的一系列效果，一...2017-08-10 14:36:55
- 生产光刻胶及使用光刻胶需注意的事项性地转换成酚醛，以及将其与其他反应性单体的化合物，可以制备出许多用于远紫外光刻的聚合物。硅氧烷/硅倍半氧烷和碳氟化合物等材料在157nm曝光波长时是...2016-12-09 09:51:02
- 光刻胶发展历程下面的材料（刻蚀或离子注入）。国外光刻胶发展光刻胶按曝光波长不同可分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、电子束光刻胶、离子束光刻胶、X射线光刻胶等。根据曝光...2016-12-07 14:25:53
- 不同材质微流控芯片的加工工艺聚物可逆结合（或不可逆）。PDMS芯片微结构尺寸取决于其注塑模具，普通紫外光刻工艺加工的尺寸最细可到2um，由于PDMS芯片材质的透气性、透光性和生...2016-12-05 10:43:18
- 光刻技术的基本原理条纹、边缘效应等，其中边缘效应对于小片和不规则片尤为明显。 2、紫外光刻 目前占光刻技术主导地位的仍然是紫外光刻。按波长可分为紫外、深紫外和...2016-10-10 10:13:26
- 纸质微流控芯片与癌症标志物检测成屏障来得到一些亲水的通道。现在已有好几种方法来制作μPADs。主要有紫外光刻，蜡印，融蜡浸透，丝网印刷，绘图，喷墨打印等等。 ...2016-08-15 09:34:30
