- 光刻技术种类及光刻胶的分类溶剂溶解就可以清除，从而增加了模板的使用寿命，降低了生产成本。 3 紫外光刻技术及相应的光刻胶 紫外光刻技术作为复制微型图形的一种图形转移技术，是...2021-12-30 15:50:44
- PDMS微流控芯片的微通道传统加工方法达25μｍ，但设备成本较高，并且可能会留下影响芯片通道性能的残余物。由紫外光刻发展而来的极紫外光刻技术是最近的研究热点，极紫外光刻与灰度光刻的结合可...2021-07-29 16:47:47
- 基于尼龙微孔薄膜的微流控芯片的制作及对葡萄糖的显色响应孔径0-45滋m)的厚度均为100滋m。SC-B型匀胶台；GP18正型紫外光刻胶；URE-2000/35型深紫外光刻机;CT-946型电热板；PDC...2018-08-03 09:43:34
- 一文看懂光刻机刻机使用的则是波长 13.5nm 的极紫外光。 早在上世纪九十年代，极紫外光刻机的概念就已经被提出， ASML 也从 1999 年开始 EUV 光刻...2018-05-16 08:59:54
- 液滴微流控系统在数字聚合酶链式反应（dPCR）中的应用研究进展ze等制作的高速微液滴发生微流控芯片，芯片采用了软光刻的方法，使用传统紫外光刻技术对SU-8进行曝光冲洗后，利用SU-8作为模具，对PDMS 进行倒...2018-01-19 09:01:42
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检司；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机购自中国科学院光电技术研究所；微流控芯片为自制PDMS芯片，PDMS...2018-01-17 09:29:56
- 光刻胶成分及用途被显影液溶解掉，因此正胶的曝光部分被去掉，而负胶的曝光部分被保留。①．紫外光刻胶（Photoresist）：各种工艺：喷涂专用胶，化学放大胶，lif...2017-10-31 17:26:19
- URE-2000B型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000B型光刻机URE-2000B型紫外光刻机主要技术特点： 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消...2017-10-30 16:34:18
- 不同材质芯片微结构的制备方法PDMS芯片微结构制备工艺PDMS芯片微结构尺寸取决于其注塑模具，普通紫外光刻工艺加工的尺寸最细可到2um，由于PDMS芯片材质的透气性、透光性和生...2017-10-27 10:18:53
- 中国大陆将迎来首台EUV光刻机器和一台普通连续激光器，成本只是主流光刻机的几分之一。该系统运行条件比紫外光刻温和得多，不需要真空环境，不需要特殊的发光和折光元器件，和一般光刻系统...2017-10-25 09:28:40
