- AZ P4620 光刻胶影液 (2.38%) 23℃ 60~300秒 Puddle 清洗：去离子水30秒后烘：120℃ 60秒以上 剥离：AZ剥离液及/或氧等离子体灰化...2024-03-28 10:29:14
- 光刻胶基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:18:53
- 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:12:32
- Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:11:49
- Mirochem SU-8光刻胶 3000系列基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡，随后用去离子水清洗并用氮气吹干。除此之外还可以利用反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗...2024-03-28 10:10:32
- 微流控芯片流量传感器的清洁方法使是干净的水溶液仍然含有足够的可溶性矿物质，在玻璃上形成沉积层。定期用去离子水清洁传感器可以防止沉淀物在玻璃上堆积。如果玻璃上仍有沉淀物，偶尔用微酸...2024-03-20 09:51:26
- 玻璃微通道加工特点面的涂层。此时，可以使用低密度的酸或碱溶液快读的冲洗芯片通道，然后使用去离子水冲洗残留的算或者碱溶液，最后，使用（空气/氧气/氮气/氩气/等）把芯片...2024-03-19 10:46:58
- 微流控粒子分选中圆形微凹槽容纳特性研究为 500 μm 和 600 μm 两种。 1.2 实验系统实验中，在去离子水中加入聚苯乙烯小球模拟真实稀释的血液，同时加入表面活性剂 Tween2...2024-03-14 15:32:19
- PDMS微流控芯片的表面修饰方法为亲水性。对于PDMS的表面改性，目前已研究发展出了很多种方法。主要有等离子处理，紫外辐射处理，硅烷化，接枝共聚法，动态表面改性法等。这些方法各有优...2024-03-14 08:51:39
- 微球载药量的影响因素相、采用水包油包固(S/O/W)乳化法等。蛋白/多肽会通过非特异性吸附和离子相互作用与已降解或未降解的聚合物结合，从而导致药物释放不完全。多肽会与 ...2024-03-04 10:49:02
