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  • AZ 5214E 光刻胶厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号...2024-03-28 10:29:49
  • AZ P4620 光刻胶厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。AZ光刻胶特点:高对比度,高感光度...2024-03-28 10:29:14
  • 光刻胶厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号...2024-03-28 10:18:53
  • 玻璃微通道加工特点打玻璃或绿玻璃),高硼硅玻璃(康宁、肖特)和石英玻璃。微通道加工方式:湿法刻蚀、激光刻蚀和机械加工等。玻璃微通道湿法腐蚀钠钙玻璃湿法刻蚀:刻蚀深度5...2024-03-19 10:46:58
  • 光刻胶黏度如何测量?光刻胶需要稀释吗?器件等中,需要使用高黏度的光刻胶,一般可以达到几微米到几十微米厚。在干湿法刻蚀中,厚的光刻胶层可以作为掩膜,保护下方的材料不被蚀刻剂侵蚀。但是,随之...2024-02-20 11:46:38
  • 微流控芯片水环境污染中的应用个区域进行连续监测的情况下,仍需要快速、高效的检测工具。使用光刻法搭配湿法刻蚀技术,成功研制了一种微流控芯片,该芯片利用鲁米诺发光性质,成功地对硝酸...2023-02-21 08:52:54
  • WH-YC-01 恒温水浴摇床介 恒温水浴摇床(WH-YC-01)是针对微流控芯片实验室中玻璃芯片的湿法刻蚀工艺开发的,具有振荡和温控两大功能,可自定义温度,以及振荡时间、速度和...2022-04-02 15:28:49
  • 微反应器加工工艺。硅体微加工,是指采用刻蚀技术,对大块硅进行准三维结构的微加工,主要有湿法刻蚀技术和干法腐蚀技术。1.1湿法腐蚀。湿法腐蚀是利用腐蚀液对材料进行氧化...2022-02-26 23:26:51
  • 水污染物分析中微流控技术的应用漏事件或连续监测某一区域时,仍然需要快速、高效的检测工具。采用光刻法与湿法刻蚀技术相结合,成功研制出一种微流控芯片.该芯片利用鲁米诺发光的性质,成功...2021-11-30 16:16:38
  • 微流控芯片的制作技术工成一定深度微结构的工艺。    根据刻蚀剂状态不同,可将腐蚀工艺分为湿法刻蚀和干法刻蚀两大类。湿法刻蚀是通过化学刻蚀液和被刻蚀物质间的化学反应将被...2021-10-14 15:29:00