- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤，皆为必备的条件。一.光刻实验所需药品及设备 化学药品：光刻胶（正胶）、显影液：5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻...2017-12-21 08:48:35
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧i-acetone（二丙酮醇）来显影SU-8胶。 · 把晶圆放在50mL显影液的结晶器内。· SU-8显影时间取决于胶层的厚度，通常在1min至15m...2017-12-15 10:09:37
- 光刻胶成分及用途基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性光刻胶将会留在衬底表面，这样就将设...2017-10-31 17:26:19
- 光刻基本操作步骤、检查N2压力不低于22PSI，真空压力必须大于22或23Hg/cm2,显影液压力调制15PSI②、检查显影液是否够，若不够，要及时添加③、机器若出现...2017-10-25 09:31:42
- 微流控分析芯片的加工技术,用紫外光照射涂有光刻胶的基片,光刻胶发生光化学反应;(e)用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维...2017-10-12 09:24:20
- 光刻胶模具加工工艺、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶、显影液 3.光刻胶模具制作流程①CAD微流控芯片设计图②菲林③铬版④光刻胶（S...2017-10-09 17:14:32
- 微纳加工- 玻璃芯片等。微流控玻璃芯片加工使用到的试剂与耗材有：铬版玻璃、掩膜、正性光刻胶、显影液、玻璃刻蚀液、去胶液。3.汶颢股份提供微流控玻璃芯片加工、设计及定制服务...2017-10-09 16:38:00
- SU-8 光刻胶及光刻工艺外 7 个环氧基, 再经扩展交联就形成了致密 的交联网络。这种网络不溶于显影液中。而未经曝光的区域, 光刻胶未发生交联, 则溶于显影液中, 因此显影后...2017-08-31 11:32:06
- 集成微流控芯片明 部分接受紫外照射后发生交联反应而聚合, 未经过紫外照射的区域则可以被显影液溶解, 之后硅片及其表面上剩下的突起的SU-8 结构构成制作 PDMS ...2017-08-29 10:02:02
- 光刻胶及光刻工艺流程PR）又称光致抗蚀剂，它是一种对光敏感的有机化合物，它受紫外光曝光后，在显影液的溶解度会发生变化。①光刻胶作用：将掩膜板上的图形转移到晶圆表面顶层的光...2017-08-23 10:15:02
