- 基于微流控技术的磁性微液滴制备方法光阻；再用无掩模激光直写机在光阻表面曝写出微流道图案，然后用AZ400K显影液显影，再以Cr的刻蚀液刻蚀出微流道图案；最后，利用丙酮去除表面光阻得到掩...2022-08-24 16:28:53
- 显影工艺及显影喷嘴的应用要影响因素如下：显影腔体中down flow的大小、腔体中的温湿度控制、显影液流量的大小及显影液温度、显影喷嘴的高度及显影液时间等。显影喷嘴是显影液供...2022-08-12 16:28:13
- 微流控芯片模板是如何加工的缓慢进行显影，过程中需要仔细观察，防止清洗过度导致微结构被破坏。显影吹干显影液，后置于显微镜下进行检查，确认无误后备用。特别需要留意的是阴性光刻胶 S...2022-07-22 14:28:36
- 简述显影机的维修和保养备，有效地传输基板。过程作用：对于负光阻值，涂布后的面板未曝光部分光阻与显影液发生作用，未曝光部分光阻溶解，洗净后需要的部分。在正的光阻下，曝光部分光...2022-03-01 16:06:55
- 介绍正/负光刻胶的显影机理及区别将被保留下来，而负性光刻胶则在显影后保留下来。也就是说，在曝光结束后，用显影液显影的是正性光刻胶的感光区、负性光刻胶的非感光区，将溶解在显影液中，此步...2021-12-30 16:49:32
- WH-XY-01 显影机设备可完全替代微流控芯片制作过程中的手动显影环节，克服了手动显影过程中的显影液加入量不可控、硅片显影时间不可控、同规格硅片间隔显影效果不可控，最大程度...2021-12-15 10:14:13
- 微流控芯片的制作技术光、接触式和接近式复印曝光、光学投影成像曝光。 5.显影用光胶配套显影液通过化学方法除去经曝光的光胶（正光胶）或未经曝光的光胶（负光胶），显影液...2021-10-14 15:29:00
- 基于时间分辨免疫分析的冰毒检测微流控芯片8注射泵；湿盒。四寸单晶硅片；光刻胶SU8-2075、SU8-3025、显影液；异丙醇、甲苯、无水乙醇；三甲基氯硅烷；聚二甲基硅氧烷；多聚赖氨酸玻片；...2018-11-07 09:49:11
- 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究究发现,二苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物,而且可以作为阻溶剂,利用不同的显影液和光刻工艺,该光致抗蚀剂可以实现正负性反转.1实验部分1. 1实验材料按...2018-08-09 08:56:21
- 负显影 Negative Tone Development (NTD)是正性胶。然而，随着半导体工艺节点的不断缩小，使用传统的正胶以碱性水溶液显影液来印刷小特征例如小尺寸的沟槽和通孔已经变得更具挑战性，因为用来产生沟槽和...2018-07-24 09:10:22
