- 正负光刻胶的区别及特性剂中时就会溶解。紫外光透过掩膜版透明区域后把光刻胶硬化，所以就不会溶解在显影液中。正性光刻正性光刻是复制到硅片表面的图形与掩膜版一样，被紫外光曝光后的...2023-08-03 08:56:30
- 什么是光刻胶？反应为主的光刻胶称为 正性光刻胶，简称 正胶。• 正胶：曝光显影后可溶与显影液• 负胶：曝光显影后不溶与显影液 根据光刻胶能形成图形的最小光刻尺寸来分...2023-08-02 08:55:55
- 如何加工一个微流控芯片的环氧树脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧i-acetone（二丙酮醇）来显影SU-8胶。 1、把晶圆放在50mL显影液的结晶器内；2、SU-8显影时间取决于胶层的厚度，通常在1min至15m...2023-07-28 08:53:56
- 一文了解SU-8光刻胶光剂。未经曝光的DQN成分作为抑制剂，可以十倍或者更大的倍数降低光刻胶在显影液中的溶解速度。曝光后，重氮萘醌(DQN)基团转变为烯酮，与水接触时，进一...2023-07-25 08:58:21
- 微流控芯片常用加工工艺胶发生化学反应，改变感光部位胶的性质，如图所示； ⑤显影把曝光过的基片用显影液清除应去掉的光刻胶，以获得与掩模相同（正光刻胶）或相反（负光刻胶）的图形...2023-05-16 09:01:24
- WH-XQY-01 自动喷淋显影清洗一体机完全替代微流控芯片制作过程中的手动显影与清洗环节，克服了手动显影过程中的显影液加入量不可控、硅片显影时间不可控、同规格硅片间隔显影效果不可控等缺点，最...2022-10-28 15:53:17
- 什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影正胶显影：正性光刻胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。 负胶显影：在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解，在光刻胶上形成三维图形。 正胶具有很好的对比度，所以生...2022-10-18 08:22:43
- WH-PXY-01 喷淋式显影机设备可完全替代微流控芯片制作过程中的手动显影环节，克服了手动显影过程中的显影液加入量不可控、硅片显影时间不可控、同规格硅片间隔显影效果不可控，最大程度...2022-10-10 11:02:16
- 光刻胶的特性及工艺流程。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。 光刻胶溶解速率k光刻胶涂层在显影液中的溶解速率，是光刻胶的一个重要参数，我们膜厚仪可以很好的去测试光刻胶的...2022-09-23 08:42:39
- 微流控芯片的加工技术——光刻工艺上，用紫外光照射涂有光刻胶的基片，光刻胶发生光化学反应; ⑤用光刻胶配套显影液通过显影的化学方法除去经曝光的光刻胶。这样，可用制版的方法将底片上的二维...2022-09-22 08:49:07
