- PDMS-玻璃键合芯片完整工艺上。图形转移的过程一般包含以下几个步骤：预处理、匀胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜，主要的工艺流程如图 2 所示。本文的阳膜是在超净间内制作完成，其...2022-03-31 14:37:35
- 微反应器加工工艺加速器产生的x射线束通过确定的图形的掩模，将PMMA曝光，然后用湿法腐蚀显影，在聚合物上刻下立体模型，然后以导电的金属基片作为阴极，浸入电镀液进行电...2022-02-26 23:26:51
- 光刻技术种类及光刻胶的分类的图形)，选择性的对光刻胶进行曝光，利用光刻胶的感光性和抗蚀性，经过化学显影，制作出与掩膜版图形一致(负胶的情况)或者是相反(正胶情况)的光刻胶图形...2021-12-30 15:50:44
- 微流控芯片的制作技术性好、厚度适当的光刻胶。胶膜太薄，易生成针孔，抗蚀能力差;太厚则不易彻底显影，同时会降低分辨率。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关，并与甩胶机的旋转速度...2021-10-14 15:29:00
- 矩形直管微通道微流控芯片设计和制作方法模。步骤二，清洗玻璃基片，然后在玻璃基片上进行敷胶、预烘焙、曝光、烘烤、显影等一系列操作。最终获得如图所示附有固化光胶的玻璃衬底。步骤三，将玻璃基片...2021-08-30 15:34:18
- PDMS微流控芯片的微通道传统加工方法掩膜板与基板对准后覆盖在光刻胶层上，曝光后再经过一次PEB，最后通过超声显影后得到所需通道部分凸起的模具；模具上浇注混合了一定比例固化剂的PDMS预...2021-07-29 16:47:47
- 催化反应微结构反应器增加比表面积。这样可以获得高达20000的表面增强因子[51]。Ni线上显影表面的一个例子如图8所示。根据要进行的反应，显影表面可用作活性相的载体。...2019-09-10 10:52:04
- 汶颢股份参展南京2019年ESEE会议开发，在展会呈现了一系列的新款产品。例如，为光刻工艺制作微流控芯片设计的显影机，解放操作人员的双手，让光刻显影变得简单易行，只要轻轻一按，加液、下沉...2019-04-16 11:51:33
- 汶颢股份参展南京2019年ESEE会议开发，在展会呈现了一系列的新款产品。例如，为光刻工艺制作微流控芯片设计的显影机，解放操作人员的双手，让光刻显影变得简单易行，只要轻轻一按，加液、下沉...2019-04-16 11:49:15
- 一种细胞培养微芯片的制作及应用icatethechip首先是利用SU-8负性光刻胶进行“多次光刻、一次显影”[12]工艺制作双层的细胞芯片模具。将硅片在Piranha洗液(硫酸和...2019-03-01 10:26:37
