- 一文了解SU-8光刻胶）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用...2023-07-25 08:58:21
- 微流控芯片的制作工艺及注意事项。该步骤需要使用掩膜板，将设计好的芯片结构投影到光刻胶表面，并进行曝光和显影处理。然后，使用薄膜沉积设备在基片上形成微流控通道。这一步骤可以采用物理...2023-07-20 09:59:05
- 微流控芯片的微细加工新技术SU28负光胶上得到高深宽比（20 ： 1）和分辩率高达几微米的图形，经显影烘干后可直接作模具用；用聚二甲基硅氧烷浇注于由硅材料、玻璃等材料制体积的...2023-06-29 09:20:56
- 微流控芯片常用加工工艺玻璃等材料上图形化的过程，其基本工艺过程包括：预处理、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜等。①基片清洗通过抛光、酸洗、水洗的方法使硅、石英或玻璃等基片表面...2023-05-16 09:01:24
- 微流控芯片的加工及微流体控制技术玻璃板；然后用甩胶机均匀地在芯片表面涂敷一层光刻胶，在紫外光下进行曝光，显影。上述工作完成之后，用相应的腐蚀剂对芯片进行蚀刻，蚀刻完成后，去除剩余的...2023-05-08 09:12:25
- 微流控芯片检测技术如红外线、微波、紫外线、X射线等等。通过光谱仪对光信息的抓取、以照相底片显影，或电脑化自动显示数值仪器显示和分析，从而测知物品中含有何种元素。电化学...2023-02-17 09:37:51
- 微流控技术三十年发展史（三）用来创造多层结构，可以用来构建复杂的三维形状。Mata等人描述了只需一个显影步骤即可在较大特征上或其周围形成10 μm直径的柱子或孔的工艺。该程序还...2023-01-18 09:01:48
- 微流控技术三十年发展史（一）之前，用紫外光通过光掩模照射抗蚀剂。对于正色调区域，未暴露于辐射的区域在显影过程中被移除，而对于负色调区域则相反。随着硅谷革命的进行，另一项将对未来...2023-01-17 10:02:20
- 软光刻：SU-8烘烤教程（适用于烘胶台）C的PEB后对SU-8进行快速冷却(不应使用冷却源)。 SU-8硬烤:在显影之后，SU-8母版可能会被加热第三次(见图1)，以进一步交联SU-8模具...2022-12-06 09:05:42
- 光刻机是光刻工艺的核心设备光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。 光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导...2022-11-22 08:50:23
