- 光刻胶黏度如何测量？光刻胶需要稀释吗？护下方的材料不被蚀刻剂侵蚀。但是，随之而来的问题是，旋涂时间，曝光时间，显影时间都在相应增加，控制难度变大，而膜层的均匀性却在下降。 光刻胶黏度如...2024-02-20 11:46:38
- 微流控芯片液滴数字化分析用于快速定量检测细菌发现细菌穿梭于油鄄水界面(图 5)以及液滴内刃天青的油相扩散(图6),明显影响了液滴显色实验的稳定性和灵敏度。这些现象的产生可能是由于油-水界面的屏...2024-01-03 10:43:34
- 工艺参数选择对石英玻璃刻蚀性能的研究lab-lite 光刻仪上进行光刻，曝光时间为30 ms，用专用NaOH显影液对曝光后的条纹进行显影，显影时间为60 s，NaOH显影液对光刻胶显影...2023-12-26 10:28:25
- 光刻工艺介绍阶段为通过曝光机将所需图形转移到硅片或者掩模版的表层光刻胶上；第二阶段为显影阶段，通过显影液与光刻胶的化学反应使第一阶段所产生的图形显现出来。光刻机...2023-12-21 10:56:32
- 生物过程中的微液滴操纵添加到水中以制备磁性液滴。实验结果表明Fe₃O₄含量对液体表面张力没有明显影响。基于磁吸引力，磁滴可以通过磁铁驱动。通过调整液滴与安放在液滴右下方的...2023-11-10 09:50:56
- 浓度梯度微流控芯片平台的构建及其应用于抗白念珠菌药物快速筛选研究%)、两性霉素B (80%)。SU-8 3025光刻胶, 硅单面抛光片和显影液, SYLGARD®184 PDMS预聚体和固化剂, HFE-7500...2023-08-10 08:45:08
- 正负光刻胶的区别及特性不透明铬下面的区域没被曝光，因此没有改变，光刻胶仍保持软的状态。当曝露在显影化学溶剂中时就会溶解。紫外光透过掩膜版透明区域后把光刻胶硬化，所以就不会...2023-08-03 08:56:30
- 什么是光刻胶？射下，以降解反应为主的光刻胶称为 正性光刻胶，简称 正胶。• 正胶：曝光显影后可溶与显影液• 负胶：曝光显影后不溶与显影液 根据光刻胶能形成图形的最...2023-08-02 08:55:55
- 如何加工一个微流控芯片的环氧树脂SU-8模具：SU-8模具制作的提示和技巧 5、 紫外曝光 6、 曝光后烘烤（光刻胶的第二次烘烤） 7、 显影 8、 硬烘烤（光刻胶的第三次烘烤）（可选） 9、校验检查 注...2023-07-28 08:53:56
- PDMS微流控芯片的制作流程及其应用V光并固化，模具的其他部分受到掩膜的不透明区域的保护。（3）模具在溶剂中显影，该溶剂刻蚀未暴露于紫外光的树脂区域。（4）然后，我们获得具有来自光掩模...2023-07-27 08:58:33
