- 一种细胞培养微芯片的制作及应用温至95oC保持2min,缓慢降温至室温。在光刻机中将第一层掩模版与硅片对准,曝光,然后对基片进行PEB(Postexposedbake,PEB),...2019-03-01 10:26:37
- 用于药物筛选的微流控细胞阵列芯片将SU8-2050甩涂到基片上,完成前烘,将第二层掩模板与第一层光刻图形对准,第二次曝光和后烘最后超声辅助显影就形成双层图形结构的SU-8模具。同理...2018-12-04 09:53:29
- 微芯片电泳研究进展及其在离子检测中的应用极式芯片的通道层与电极层是独立的,使用灵活,然而组装过程中电极与通道存在对准误差,检测精度以及重复性相对较差。 图2两种典型的电泳微芯片结构:(A)...2018-11-20 09:58:26
- 模内键合聚合物微流控芯片微通道变形研究通道，将热键合工艺集成于注射成型之中，利用模具滑移或转动实现基片和盖片的对准，在抽芯力和模温的作用下实现芯片键合。此工艺避免了芯片的反复升降温，将芯...2018-08-01 08:54:57
- 光刻工艺的评价标准±(8-10)%之内。其次是套刻误差，光刻胶上的图形必须与衬底上的参考层对准，如图所示： 其X/Y方向的偏差必须小于一个规定的值。通过KrF光刻能达...2018-07-31 18:10:09
- 芯片光刻的流程详解（上）溶剂挥发，光刻胶厚度也会减薄，一般减薄的幅度为10％－20％左右。 五、对准（Alignment）光刻对准技术是曝光前一个重要步骤作为光刻的三大核心...2018-07-12 08:36:24
- 负压驱动皮升级等温核酸精确定量微流控芯片0 μm, 于95 ℃烘烤25 min。将小室图样掩膜贴在光胶上, 利用对准设备将掩膜与已曝光的通道层图案对准。紫外照射34 s。于65 ℃和95 ...2018-07-10 08:46:34
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备出高质的光刻掩膜版。3.曝光系统曝光机 将光刻掩膜版与涂上光刻胶的晶圆片对准，用一定波长的紫外光经过光刻掩膜版照射晶圆片，使晶圆片上受光照的光刻胶的...2018-06-07 08:41:19
- 西工大团队研发基于微流控技术的太空乘员健康检测仪， 实现在轨“验血”、高保型度PMMA基聚合物加工工艺，芯片表面具备纳米级表面粗糙度和微米级对准精度的微通道，在技术上实现了即插即检测。“绿航星际”乘员在试验舱内加载芯...2018-05-22 10:22:09
- 一文看懂光刻机异，难以区分曝光和未曝光的光刻胶。4）曝光曝光过程是在硅片表面和石英掩模对准并聚焦后，使用紫外光照射，未受掩模遮挡部分的光刻胶发生曝光反应，实现电路...2018-05-16 08:59:54
