- 匀胶机详细的操作步骤原理图。流畅的材料流将均匀分布，以获得更佳涂层。14、点胶至基板边缘当水坑到达基片边缘时，停止分配您的化学品。如果将旋涂机编程为在初始分配完成时移动到下一...2023-08-24 09:45:48
- 细说接触式光刻机的使用原理及性能指标其他应用方面。接触式光刻机的性能指标：接触式光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等...2023-08-04 08:55:03
- 一文了解SU-8光刻胶应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印...2023-07-25 08:58:21
- 微流控芯片的制作工艺及注意事项芯片制作所需的材料和设备。常见的材料包括聚二甲基硅氧烷（PDMS）和玻璃基片。而设备则包括光刻机、薄膜沉积设备等。接下来，通过光刻技术将芯片的图案转...2023-07-20 09:59:05
- 微流控芯片的封接技术onding）对玻璃和石英材质刻蚀的微结构一般使用热键合方法，将加工好的基片和相同材质的盖片洗净烘干对齐紧贴后平放在高温炉中，在基片和盖片上下方各放...2023-06-30 11:03:52
- SU-8显影液%显影原理：SU-8胶的显影原理是在显影液中溶解掉未曝光部分的光刻胶。当基片放人显影液中，未曝光部分的光刻胶会被显影液溶解。而曝光过的光刻胶已交联形...2023-06-29 11:57:03
- 微流控芯片的微细加工新技术面自由能低（～21.6dyn/cm），化学性质稳定、与其它材料不粘连；与基片正交接触严密，容易取模；柔软，易变形，弹性好，可在曲面上复制微图形。微接...2023-06-29 09:20:56
- 微流控芯片制作方法详解道宽度和深度为微米级，比集成电路芯片的大，但加工精度要求则相对较低。2、基片材料应具有良好的电绝缘性、散热性、光学性能可以修饰性，可产生电渗流，能固...2023-06-28 08:42:51
- 微流控芯片常用加工工艺行详细的说明。（1）光刻和刻蚀技术光刻是利用光成像和光敏胶在微流控芯片的基片如硅、玻璃等材料上图形化的过程，其基本工艺过程包括：预处理、涂胶、前烘、...2023-05-16 09:01:24
- PCR微流控芯片微通道有哪些加工手段呢研究人员在刊物上公开发表的。东京大学的Teruo Fujii等在PDMS基片上,采用注塑法加工出了应用于电泳分离的CE芯片。注塑法的工艺过程是:在硅...2023-05-11 09:22:24
