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  • 硅微通道芯片的客户要求。优点:1. 通道表面结构良好;2. 易于集成;3. 半导体硅基材质。加工规格:1. 酸/碱法腐蚀硅片宽深比接近2:1;2. 通道表面粗糙...2020-01-08 10:17:32
  • 汶颢股份产品目录(2018年)(电磁阀、转向阀、单向阀)3. 微流控芯片加工耗材  3.1 微流控芯片基材系列(硅片、玻璃片、PMMA板、PC板、COC板)  3.2 微流控芯片...2018-01-03 10:39:46
  • WH-2000B 真空热压键合机(硅基)了温控范围、升级了温度控制设置程序,用于玻璃、硅片、晶圆、蓝宝石、石英等基材的中低高温键合,是国内第一款硅基热压键合加工专用设备。WH-2000B真...2023-11-03 16:14:45
  • 匀胶机旋涂法制备复合材料薄膜膜。2、基板准备:准备用于涂覆的平坦基板,通常是硅片、玻璃片或其他光滑的基材。清洗和处理基板以确保其表面干净,并可能进行表面处理以提高薄膜附着性。3...2024-05-06 15:33:25
  • 光刻胶刻胶光刻前清洗工艺:为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:18:53
  • 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:12:32
  • Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:11:49
  • Mirochem SU-8光刻胶 3000系列光刻胶光刻前清洗工艺为了获得更好的光刻效果,在进行光刻胶旋涂之前,需要对基材进行清洗。常用的清洗方法是利用浓硫酸及双氧水的混合溶液浸泡,随后用去离子...2024-03-28 10:10:32
  • 匀胶过程中气泡的产生及消除措施性气体,这些挥发性气体在上述光刻胶膜中形成气泡。因此在涂布光刻胶之前加热基材可能会有所帮助。当然,也有可能在前烘之前,那些小得看不见的气泡已经被加入...2024-02-27 09:12:44
  • 通过调节润湿行为在微流体技术方面的最新进展(下)机构的组合驱动。上述研究证明了连续流微流控的特点:生化应用的简单性和材料基材的通用性。综上所述,连续流微流控操作是占主导地位的方法,并在实践中应用了...2024-01-11 09:09:28