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- 软光刻技术：SU-8涂层Tips:汶颢提供微流控芯片模具及软光刻相关设备，如匀胶机（又叫旋涂机等）、烘胶台、SU-8系列光刻胶及显影液产品和相关技术输出服务。在软光刻技术中，通常用SU-8模具复制PDMS微流体结构芯片。为了...2018-03-16 09:26:49
- SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍SU-8工艺更有利于微细电铸工艺。胶膜结构质量受光刻工艺，如基底前处理、匀胶、前后烘、曝光、显影等环节影响，其中显影操作是光刻图形成形的关键环节，对...2018-03-09 08:47:59
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检购自美国MicroChem公司；等离子清洗机购自美国Harrick公司；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机...2018-01-17 09:29:56
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤刻胶（正胶）、显影液：5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片：去...2017-12-21 08:48:35
- 微流控芯片的环氧树脂SU-8模具制作技巧在微流控芯片加工过程中，通常都会用到模具，尤其是在PDMS芯片加工的过程中。PDMS芯片加工通常采用软光刻技术来制作。为了执行PDMS软光刻技术的加工...2017-12-15 10:09:37
- 热压法快速制作微流控芯片模具A模具与 PDMS微流控芯片制作流程示意图(1) 玻璃母模的制作。以商品匀胶铬板玻璃为基片,光刻后置于玻璃腐 蚀液中,40℃水浴腐蚀15min,在丙...2017-12-01 10:05:25
- 玻璃、PMMA、PDMS微流控芯片加工中用到的仪器设备及用途说明片加工常用仪器设备及用途介绍：光刻机:对PDMS芯片的模板进行光刻加工。匀胶机：PDMS光刻模板匀胶加工。（推荐产品：WH-SC-01型台式匀胶机）...2017-11-21 16:22:09
- URE-2000S/A型光刻机率：1000W（直流）
9、最大胶厚：400mm（SU8胶，用户提供匀胶显影条件）
10、曝光方式：定时（倒计时方式）
外形尺寸：
...2017-10-30 16:48:01
- URE-2000A型光刻机Y: 5mm; : 6度
◆ 最大胶厚：500m(SU8胶，用户提供匀胶条件)
◆ 光源平行性：3.5
◆ 汞灯功率：1000W（直流）...2017-10-30 16:39:48
