- 微流控芯片制作方法详解开天平称胶。A胶：B胶=10:1。A胶与B胶的比越大配出来的胶越软。2、匀胶：打开真空脱泡搅拌机，放入称好的胶，抽真空将胶搅拌混合。3、修饰：将处理...2023-06-28 08:42:51
- 展会资讯|苏州汶颢受邀参加第19届中国南京国际科教技术及装备博览会产；部分微流控芯片 实验室设备：主要包括微流控芯片加工/使用设备（包括：匀胶机、烘胶台、流体驱动设备、键合设备等）及分析检测仪器（包括：细胞分离制片...2023-03-16 15:23:09
- 涂胶显影设备的前景涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过...2022-10-17 08:27:13
- WH-DJ-01 点胶机；可自定义压力，时间、速度以及点胶的位置。可以与各类点胶载台配合使用，如匀胶机、硅片载台、载玻片等。点胶机进料管采用耐腐蚀的黑色软管，避免因外界光源...2022-10-10 10:00:23
- 光刻胶的特性及工艺流程度逐渐变小的曲线图。 光刻工艺流程其中膜厚仪用在旋转涂胶这一环节用来测试匀胶后的膜厚 涂胶工艺的目的就是在晶圆表面建立薄的、均匀的、并且没有缺陷的光...2022-09-23 08:42:39
- 光刻胶的主要成分和技术参数参数。黏度随光刻胶中溶剂的减少而增加；高黏度会产生厚的光刻胶；黏度越小，匀胶后光刻胶的厚度越均匀。黏度的单位是泊（poise），光刻胶一般用厘泊（c...2022-09-19 08:34:41
- 显影工艺及显影喷嘴的应用外延而形成一层光刻胶涂层的过程中，因多余光刻胶被甩出晶圆表面时，再碰撞到匀胶 Cup，经其向下顺流至排废口，由排废管排出。如果无法及时排出，而晶圆仍...2022-08-12 16:28:13
- 微液滴微通道制作方法的对角分别打孔。(2)中间层PDMS薄膜。将处理后的空白硅片放置在离心均匀胶机上，然后将配备比例的液体PDMS倒入硅片中心，打开均匀胶机，设定转速和...2022-05-11 16:53:49
- PDMS-玻璃键合芯片完整工艺 SU-8 光刻胶的硅片上。图形转移的过程一般包含以下几个步骤：预处理、匀胶、前烘、曝光、后烘、显影和坚膜，主要的工艺流程如图 2 所示。本文的阳膜...2022-03-31 14:37:35
- 微流控芯片的制作技术一、光刻和刻蚀技术传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术，是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工，工艺成熟，...2021-10-14 15:29:00
