- SU-8光刻胶模具表面修饰的玻璃。环氧树脂SU-8模具加工常用设备/耗材：等离子体处理机、匀胶机（旋涂机）、紫外线曝光机、热板、SU-8显影液等。SU-8光刻胶模具案...2024-05-07 05:07:34
- Microchem SU-8光刻胶 2000系列主要用于快速模塑法加工PDMS微流控芯片。光刻胶型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度规格MicroChem SU-8 负胶SU-8 2000.50.5-...2024-03-28 10:07:48
- 汶颢股份产品服务一览表（2020）。4. 微流控芯片加工设备PDMS芯片加工设备：PDMS脱泡固化一体机、匀胶机、显影机、点胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS...2020-04-16 17:20:54
- 汶颢股份产品目录(2018年)、芯片切割刀)4. 微流控芯片加工设备 4.1 PDMS芯片加工设备(匀胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-A...2018-01-03 10:39:46
- 基于微流控技术实现严格厌氧条件下的细菌单细胞培养与实时观测（上）8 2000.5)＝8∶2(体积比)将两种胶在离心管中混匀。 c. 设定匀胶机程序：预甩 600 r/min，9 s；匀胶 4 000 r/min，...2024-04-22 10:01:06
- AZ 9260 光刻胶蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6umA...2024-03-28 10:31:40
- AZ 50XT 光刻胶蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6umA...2024-03-28 10:30:59
- AZ 5214E 光刻胶蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6umA...2024-03-28 10:29:49
- AZ P4620 光刻胶蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6umA...2024-03-28 10:29:14
- 光刻胶蚀工艺改进；广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻胶名称型号匀胶厚度规格Merck AZ 正/负可转换型光刻胶AZ 52140.5-6μ...2024-03-28 10:18:53
