- 玻璃微流控芯片有什么优点？是一种非晶材料，光学透明且电绝缘性能好。该材料通常用标准光刻或湿法/干法刻蚀进行处理。除非采用特殊的刻蚀技术，否则刻蚀的玻璃通道将拥有圆形侧壁。玻璃...2023-02-06 14:56:42
- 微流控技术三十年发展史（一）控设备的材料。随着时间的推移，更广泛的传感器和换能器以及更精细的硅光刻和刻蚀技术被开发出来，研究人员开始将注意力转向使用这些技术来解决电子学问题。分...2023-01-17 10:02:20
- 从耐化学性出发，总结各类微流控材料的使用场景b)微混合器 然而，它也有一些缺点。玻璃的微加工是昂贵的，玻璃芯片的某些刻蚀步骤具有危险性，这牵涉到相当的时间和财务成本问题，因此大多数制造实验室避...2022-12-13 13:37:05
- 光刻机是光刻工艺的核心设备历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。 光刻机是光刻工艺的核心设备，也是所有半导体制造设备中...2022-11-22 08:50:23
- 如何选择微流控芯片?是一种非晶材料，光学透明且电绝缘性能好。该材料通常用标准光刻或湿法/干法刻蚀进行处理。除非采用特殊的刻蚀技术，否则刻蚀的玻璃通道将拥有圆形侧壁。玻璃...2022-11-10 09:25:25
- 什么叫光刻胶的正胶显影和负胶显影成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。 负胶的特性为，具有良好的粘附能力和阻挡作用、感光速度快...2022-10-18 08:22:43
- 等离子清洗机在PDMS微流控芯片键合中的作用子表面处理机、等离子清洗系统等。等离子处理机广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等场...2022-10-14 08:13:26
- 光刻胶的特性及工艺流程粘附性必须经受住后续工艺。(6)抗蚀性光刻胶必须保持它的粘附性，在后续的刻蚀工序中保护衬底表面。耐热稳定性、抗刻蚀能力和抗离子轰击能力。 光刻胶溶解...2022-09-23 08:42:39
- 光刻胶的主要成分和技术参数会导致半导体晶圆片表面的图形变形。光刻胶的黏附性必须经受住后续工艺，比如刻蚀、离子注入和热扩散等。 （6）抗蚀性。光刻胶必须有较强的抗蚀性，才能在后...2022-09-19 08:34:41
- 光刻胶SU-8涂胶工艺解析光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形转移到加工衬底上，来达到在晶圆上刻蚀出所需的图形或抗离子注入的目的。免责声明：文章来源网络 以传播知识、有...2022-09-16 08:26:41
