- 惯性微流控制备方法综述比较，最后，阐述了惯性微流控器件的前景及其创新成果。总体而言，虽然光刻和刻蚀可以制造分辨率为几微米的2D结构，但是这两种方法都需要复杂的设备和洁净室...2023-11-28 11:03:11
- 基于微流控芯片的血脑屏障体外模型构建微环境。1 基于微流控芯片的BBB 体外模型的构建多数微流控芯片的制作以刻蚀技术为基础，在单晶硅、玻璃等基底材料上刻蚀出不同的通道图案制备阳膜，再利...2023-11-01 11:45:43
- 等离子清洗机基与这些键形成网状的交联结构，大大地激活了表面活性。 2.对材料表面的刻蚀作用--物理作用 等离子清洗机中的大量离子、激发态分子、自由基等多种...2023-08-18 10:03:25
- 从三方面介绍微流控技术发展及应用加工这一步需考虑结构、成本、管道尺寸、能否量产等问题。目前技术有：光刻和刻蚀技术、热压法、模塑法、注塑法、LIGA法（集合光刻、电铸和塑铸）、激光烧...2023-08-16 08:56:15
- 正负光刻胶的区别及特性刻胶。保留下来的光刻胶在曝光前已被硬化并将留在硅片表面，作为后步工艺比如刻蚀的保护层，在接下来的工艺结束后光刻胶将被除去。20世纪70年代以来正性光...2023-08-03 08:56:30
- 什么是光刻胶？成的图形具有良好的分辨率，其他特性如，台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。现在最小尺寸小于3um一般都会用正胶！目前一般都是用正胶...2023-08-02 08:55:55
- PDMS微流控芯片的制作流程及其应用模具的其他部分受到掩膜的不透明区域的保护。（3）模具在溶剂中显影，该溶剂刻蚀未暴露于紫外光的树脂区域。（4）然后，我们获得具有来自光掩模的图案的树脂...2023-07-27 08:58:33
- 一文了解SU-8光刻胶大规模集成电路的制造过程中，一般要对硅片进行超过十次光刻。在每次的光刻和刻蚀工艺中，光刻胶都要通过预烘、涂胶、前烘、对准、曝光、后烘、显影和蚀刻等环...2023-07-25 08:58:21
- 数字微流控芯片的基本组成多晶硅、金属及其氧化物。重掺杂多晶硅通常采用化学气相沉积方法制备，并经过刻蚀工艺形成所需要的驱动微电极，该方法能与微加工技术兼容，但是由于制备工艺复...2023-07-07 09:33:36
- 微流控芯片的封接技术热键合（fusion bonding）对玻璃和石英材质刻蚀的微结构一般使用热键合方法，将加工好的基片和相同材质的盖片洗净烘干对齐紧贴后平放在高温炉中，在基片和盖片上下方各放一块抛光过的石墨板，在上面的石...2023-06-30 11:03:52
