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• 光刻胶的应用简介以及我国光刻胶的发展现状微通道的制作，起源于制作半导体及集成电路芯片所广泛使用的光刻和蚀刻技术。光刻蚀是用光胶、掩模和紫外光进行微制造，它的工艺成熟，已广泛用于硅、玻璃和石英...2016-11-29 16:48:28
• 汶颢微流控芯片加工能力、石英、硅片、金属等。技术手段：光刻、湿法刻蚀、注塑、数控加工、热压、激光刻蚀等。加工能力：    PDMS：加工线宽在2微米以上，深宽比最大可到5:...2016-11-01 14:06:48
• 光刻机工作原理和组成硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光。越复杂的芯片，线路图的层数...2016-08-24 11:03:30
• 微流控芯片制作与修饰聚合物材料。大批量生产时成本低。3．模版热压法 适合热塑性聚合物。4.激光刻蚀法用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构所需仪器设备光刻机:光刻机/紫...2016-05-27 13:53:09