- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备射晶圆片，使晶圆片上受光照的光刻胶的特性发生变化，这就是曝光。曝光系统（光刻机）主要有光学曝光系统和非光学曝光系统。光学曝光系统的发展经历了五个阶段，...2018-06-07 08:41:19
- 光刻胶材料大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂...2018-06-05 08:50:37
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机购自中国科学院光电技术研究所；微流控芯片为自制PDMS芯片，PDMS购自...2018-01-17 09:29:56
- 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤影液：5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片：去离子水和有机溶液冲...2017-12-21 08:48:35
- 热压法快速制作微流控芯片模具体与引发剂;其他所用化学试剂均为国产分析纯。(2) 仪器。JKG-2A 光刻机;JC1000电脑层压机;LEO-1530 扫描电镜系统;MoticE3...2017-12-01 10:05:25
- 玻璃、PMMA、PDMS微流控芯片加工中用到的仪器设备及用途说明观察。汶颢PDMS芯片3.微流控PDMS芯片加工常用仪器设备及用途介绍：光刻机:对PDMS芯片的模板进行光刻加工。匀胶机：PDMS光刻模板匀胶加工。（...2017-11-21 16:22:09
- 光刻胶和光刻的基本流程1、芯片图形的转移和实现电路图形（EDA设计）—（投影和离子束曝光）—掩膜版—（光刻）—光刻胶—（刻蚀/注入）—芯片2、光刻的基本原理光刻是通过光化合...2017-10-10 08:50:00
- 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件一、微流控芯片加工设备1、PDMS芯片加工设备：匀胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-AM-01 微流控芯片对准平台、等离子清洗机。2、玻璃芯片加工设备：匀胶机、烘胶台、光刻机、...2017-10-10 08:48:08
- 正负光刻胶的缺点对比。光刻胶使用过程中的注意事项：①若腐蚀液为碱性，则不宜用正性光刻胶；②看光刻机型式,若是投影方式,用常规负胶时氮气环境可能会有些问题 ；③负性胶价格成...2017-10-09 17:41:05
- SU-8光刻胶光刻工艺刻胶进行前烘处理,在热板上缓慢冷却4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式曝光5) 对曝光后的SU-8光刻胶在热板上进行后烘热处理，得...2017-10-09 17:36:09
