- 微流控芯片的制作工艺及注意事项和设备。常见的材料包括聚二甲基硅氧烷（PDMS）和玻璃基片。而设备则包括光刻机、薄膜沉积设备等。接下来，通过光刻技术将芯片的图案转移到光刻胶上。该步骤...2023-07-20 09:59:05
- 处于中国军民担忧中的芯片制造机器极端紫外线光刻机是一项技术奇迹。一台发电机每秒喷射出50,000个微小的锡熔滴。高功率激光对每个液滴进行两次爆炸。第一个可以塑造微小的锡，所以第二个可以将其蒸发...2022-12-01 10:59:39
- 涂胶显影设备的前景片制程中必不可少的处理设备，利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工，与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为光刻机的...2022-10-17 08:27:13
- 一种细胞培养微芯片的制作及应用上在65oC烘1min然后升温至95oC保持2min,缓慢降温至室温。在光刻机中将第一层掩模版与硅片对准,曝光,然后对基片进行PEB(Postexpo...2019-03-01 10:26:37
- 用于药物筛选的微流控细胞阵列芯片上65oC烘1min,然后升温至95oC保持2min,缓慢降温至室温,在光刻机上第1次曝光后,将硅片放到热板上进行PEB，即65oC加热烘1min,然...2018-12-04 09:53:29
- 基于尼龙微孔薄膜的微流控芯片的制作及对葡萄糖的显色响应SC-B型匀胶台；GP18正型紫外光刻胶；URE-2000/35型深紫外光刻机;CT-946型电热板；PDC-MG等离子体清洗器。2实验过程2.1尼龙...2018-08-03 09:43:34
- 对准工作原理证每一层图形有正确的相对位置，这称为套刻曝光（简称套刻）。套刻精度是投影光刻机的关键技术指标，而对准精度是影响套刻精度的关键因素。掩模硅片对准就是要在...2018-07-27 09:05:43
- 光刻工艺的成本+Cl+Cf+Cc+CrQrwNc)/Ng+Cm/Nwm式中，Ce是每年光刻机、匀胶显影机的成本（包括折旧费、设备维护费和安装调试费用）；Cl是每年光...2018-07-25 08:40:00
- 现代光刻工艺研发各部分的职责和协作工艺的不断发展以外，光刻工程技术人员工作的职责和方式也在不断演化。首先是光刻机越来越复杂和昂贵，仅靠Fab的光刻工程师，已经不能完全运行和维护光刻设备...2018-07-12 09:55:41
- 负压驱动皮升级等温核酸精确定量微流控芯片X71型荧光倒置显微镜(日本Olympus公司); H94-25C型单面光刻机(中国四川南光公司); SU-8 2025及SU-8 3025负性光胶(...2018-07-10 08:46:34
