- Nikon光刻机对准机制和标记系统研究子激光光刻机商品为止，各种各样的G线、I线光刻机统治了集成电路制造中的光刻工艺。在此期间，日本Nikon公司成为世界上占据第一位的步进光刻机供货商。...2018-01-31 09:33:17
- 【光刻百科】抗反射涂层 Anti-Reflection Coating (ARC)C)，其主要成分是高C含量的聚合物。选择抗反射涂层的一个因素是，在完成光刻工艺步骤之后抗反射涂层能够被除去的能力。在某些情况下有机抗反射涂层(主要是...2018-01-15 09:26:04
- 高精度匀胶机运行过程与注意事项oating）已在许多领域取得广泛应用。集成电路：在半导体，集成电路的光刻工艺中，将光刻胶涂覆在硅片，聚二甲基硅氧烷 （PDMS）等表面。金属表面处...2017-12-20 09:35:21
- 不同材质芯片微结构的制备方法MS芯片微结构制备工艺PDMS芯片微结构尺寸取决于其注塑模具，普通紫外光刻工艺加工的尺寸最细可到2um，由于PDMS芯片材质的透气性、透光性和生物相...2017-10-27 10:18:53
- BP -2B烘胶机产品名称：
BP -2B烘胶机产品介绍：
◆产品主要用于光刻工艺中的前烘和坚膜。本产品具有烘胶速度快、均匀、控温精度高等特点，可长时间连续稳定工作。
◆本产品操作方便、稳定性高，具有较高的性能价格比，...2017-10-26 15:19:07
- 微流控分析芯片的加工技术性。1. 光刻（lithography)和刻蚀技术（etching)①光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基...2017-10-12 09:24:20
- 光刻胶和光刻的基本流程激活光刻胶并将图形从掩膜版中转移到硅片上的要求 2、光刻胶的类型—两种光刻工艺又名（光致）抗蚀剂，光阻、photoresist。4.1 正胶曝光后溶...2017-10-10 08:50:00
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺为解决微流控芯片模具在微电铸工艺中铸层与基底结合力差的问题，在光刻工艺的基础上，采用掩膜电化学刻蚀和微电铸相结合的方法，制作出了结合力较好的镍基双十字微流控芯片模具。针对掩膜电化学刻蚀的工艺参数进行了试验研究，...2017-10-10 08:38:48
- MEMS工艺加工服务微纳工艺加工服务和微纳工艺加工咨询。可提供定制的工艺包括：1.MEMS光刻工艺：对光刻胶掩膜进行图形化，最小线宽0.5μm。可用于：①微流控芯片的通...2017-10-09 16:43:27
- 诚聘英才 - 2017年9月21日汶颢股份最新急需岗位人才招聘公司光刻订单：实施生产加工，并对生产成本、生产工期、产品质量负责；2、光刻工艺参数的记录、整理、存档和分析；3、改进、优化与完善产品加工工艺；4、客...2017-10-09 15:08:29
