- 一种可以正负互用的水型化学增幅抗蚀剂的研究苯基碘盐不仅可以作为光敏产酸物,而且可以作为阻溶剂,利用不同的显影液和光刻工艺,该光致抗蚀剂可以实现正负性反转.1实验部分1. 1实验材料按改进的文...2018-08-09 08:56:21
- 负显影 Negative Tone Development (NTD)沟槽。图1是常规的显影工艺(正显影)与负显影工艺对比的示意图。在过去的光刻工艺中，显影液都是 TMAH(1%～2%)的水溶液，显影完成后使用去离子水...2018-07-24 09:10:22
- 芯片光刻的流程详解（上）在900-1100度湿氧化。氧化层可以作为湿法刻蚀或B注入的膜版。作为光刻工艺自身的第一步，一薄层的对紫外光敏感的有机高分子化合物，即通常所说的光刻...2018-07-12 08:36:24
- 烘胶台（WH-HP-01 2018）使用手册台是苏州汶颢微流控技术股份有限公司独立开发，具有独立知识产权，可以用于光刻工艺中的前烘、中烘和后烘。该设备采用PID控温系统自动测温控温，并具有两段...2018-07-06 15:21:56
- 光刻技术图形转移工艺二：光刻材料及设备的部分会变得不易溶解，经过显影后，留下光照部分形成图形。 负胶在光刻工艺上应用最早，其工艺成本低、产量高，但由于它吸收显影液后会膨胀，导致其分...2018-06-07 08:41:19
- 光刻胶材料入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印技术，也是集成电路制造工艺中一项关键工艺。首先将光刻胶（...2018-06-05 08:50:37
- 光刻技术图形转移工艺一：照相技术的启发答案只有一个，那就是集成电路制造需要图形转移工艺，它主要包括两部分，即光刻工艺与刻蚀工艺。一、照相技术的启发光刻工艺是一种图像复印技术，是集成电路制...2018-06-01 11:17:53
- 面向POCT应用的微流控芯片技术可构建直径仅数十微米的微针，实现表皮穿刺和血液采样[40]。Li等采用光刻工艺构建外径120 、内径60、长度1800的微针结构，在分析机械强度和液...2018-05-28 10:54:26
- 一文看懂光刻机刻，耗时占到 IC 生产环节的 50%左右，占芯片生产成本的 1/3。光刻工艺流程详解光刻的原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线...2018-05-16 08:59:54
- 软光刻技术：SU-8涂层模具复制PDMS微流体结构芯片。为了制造这种SU-8母版，通常使用标准光刻工艺。因此，第一个关键问题是在硅晶片上应用SU-8光刻胶层，如图1所示。用...2018-03-16 09:26:49
