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- WH-XQY-01 自动喷淋显影清洗一体机H-XQY-01）是汶颢股份自主开发的具有独立知识产权的一款产品，针对光刻工艺中的显影与清洗过程而设计开发的，可以进行程控式自动化显影与清洗。该设备...2022-10-28 15:53:17
- WH-PXY-01 喷淋式显影机H-PXY-01）是汶颢股份自主开发的具有独立知识产权的一款产品，针对光刻工艺中的显影过程而设计开发的，可以对7英寸以下（含7英寸）规格的硅片进行程...2022-10-10 11:02:16
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- 光刻胶的特性及工艺流程。一般用关键尺寸来衡量分辨率。形成的关键尺寸越小，光刻胶的分辨率越好。光刻工艺中影响分辨率的因素有：光源、曝光方式 和 光刻胶本身（包括灵敏度、对比...2022-09-23 08:42:39
- 光刻胶的主要成分和技术参数达到想要的图形尺寸，而且针孔密度更低。 （10）阶梯覆盖度。晶圆在进行光刻工艺之前，表面已经有了很多的层。光刻胶要能起到阻隔刻蚀的作用，必须在以前层...2022-09-19 08:34:41
- 光刻胶SU-8涂胶工艺解析（Back-End，即封装测试）设备两大类。涂胶/显影机在前道工艺中是光刻工艺重要环节的设备，在后道工艺中主要应用封装技术的涂胶、显影等工序。后道先...2022-09-16 08:26:41
