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  • Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 SU- 8 光刻胶组分旋涂在基材上,旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片...2024-03-28 10:11:49
  • Mirochem SU-8光刻胶 3000系列反应离子刻蚀或等离子表面清洗仪清洗。Microchem SU 8光刻胶光刻工艺将 SU- 8 光刻胶组分旋涂在基材上,旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片...2024-03-28 10:10:32
  • 掩膜版清洗方法和注意事项光刻掩模版通常被连续用作几乎每个光刻工艺步骤中。在处理晶圆/样品时,掩膜版通常会变脏。由于光刻过程中我们常用的接触是光刻机需要掩膜版与光刻胶上表面紧密接触以提高光刻精度,因此随着时...2024-02-28 09:39:58
  • 匀胶显影设备工艺原理、结构及常见故障分析述较少,文章对整个光刻技术的工艺步骤进行介绍,分析了涂胶显影改进技术对光刻工艺的影响。文章主要对涂胶显影设备的传片方法、设计思路进行了详细的介绍。文...2023-12-22 09:53:09
  • 一种用于流体自动控制的微流控晶体管ture期刊上。如图1a所示,这种微流控晶体管整体是利用弹性体和标准软光刻工艺制备而成,其由两个被可变形膜隔开的交叉流体通道组成。当源极和漏极之间存...2023-11-22 10:55:06
  • 如何从SU-8模具中进行PDMS的光刻复制(PDMS芯片的加工过程)?文旨在为如何做PDMS光刻复制提供基础知识,PDMS光刻复制又被称为软光刻工艺。我将在这里给您提供一些技巧和窍门,使PDMS光刻复制就像按按钮一样简...2023-08-07 10:18:31
  • 细说接触式光刻机的使用原理及性能指标辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的zuì细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射...2023-08-04 08:55:03
  • 正负光刻胶的区别及特性正负光刻胶的区别及特性光刻工艺包括负性光刻和正性光刻两种基本工艺。负性光刻是把与掩膜版上图形相反的图形复刻到硅片表面;正性光刻是把与掩膜版上图形相同的图形复刻到硅片表面,...2023-08-03 08:56:30
  • 一文了解SU-8光刻胶材料:光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。光刻工艺的成本约为整个芯片制造工艺的35%,并且耗费时间约占整个芯片工艺的40...2023-07-25 08:58:21
  • 生物芯片的技术核心(上)是Affymetrix公司开发的光引导原位合成法,该方法是微加工技术中光刻工艺与光化学合成法相结合的产物。第二种方法是Incyte Pharmace...2023-02-13 09:20:30