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'关键字: 光刻工艺'
- 微流控芯片制作与修饰膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、...2016-05-27 13:53:09
- 光刻机的简单介绍膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、...2016-04-18 11:54:16
- 光刻技术获得与抗蚀剂薄层图形完全一致的图形。集成电路各功能层是立体重叠的,因而光刻工艺总是多次反复进行。例如,大规模集成电路要经过约10次光刻才能完成各层图...2016-04-05 11:54:05
- 光刻机的“曝光模式”分类缺陷少。接近式光刻由于设备价栺适中,且光刻效果可以满足多种需求,在现代光刻工艺中应用最为泛,国外及台湾的光刻机生产商大都拥有该技术。
...2015-02-13 15:49:15
- 光刻机的分类ment System.
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、...2015-02-13 15:17:06
- 光刻机的主要性能指标有哪些、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
光刻...2015-01-30 16:37:55
- 传统光学的曝光技术有哪些,MEMS)器件,尤其是信息MEMS 和生物MEMS。美国采用光学投影光刻工艺已在硅片上加工出纳米级微型静电马达、微流量控制泵、可注 入人的血管的医...2015-01-30 16:31:49