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首页 > 站内搜索 > 全站搜索  '关键字: 涂胶显影设备'
  • 涂胶显影设备的前景涂胶显影设备是芯片制程中必不可少的处理设备,利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过...2022-10-17 08:27:13
  • 匀胶显影设备工艺原理、结构及常见故障分析光刻技术是半导体工艺制造技术中最重要的工艺之一。涂胶显影设备结构虽比不上光刻机的复杂程度,但也是半导体生产中是不可缺少的设备,其设备维修也涉及到物理、化学、机械、电气及控制等多方面的内容。国内对涂...2023-12-22 09:53:09
  • 光刻机是光刻工艺的核心设备清洗设备、刻蚀设备、热处理设备、PVD设备、CVD设备、CMP设备、涂胶显影设备均有突破,部分产品成功实现了国产替代。然而对于光刻设备我国仍处于被掐...2022-11-22 08:50:23
  • 光刻胶SU-8涂胶工艺解析分类。光刻涂胶工艺无论在晶圆制造前道工艺还是封装测试后道工艺,都需要涂胶显影设备。半导体设备按半导体加工过程主要分为前道工艺(Front-End,即...2022-09-16 08:26:41
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