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  • 对准工作原理片对准误差、工件台重复步进定位误差(或步进和扫描误差)、运动模型误差、对准标记制作误差、激光干涉仪的测量误差、机器的安装误差、掩模版预对准误差、硅片...2018-07-27 09:05:43
  • 芯片光刻的流程详解(上)是把掩膜版上的Y轴与晶园上的平边成90?,如图所示。接下来的掩膜版都用对准标记与上一层带有图形的掩膜对准。对准标记是一个特殊的图形(见图),分布在每...2018-07-12 08:36:24
  • 光刻技术图形转移工艺二:光刻材料及设备    2、对准    对准指光刻掩膜版与光刻机之间的对准,二者均刻有对准标记,使标记对准即可达到光刻掩膜版与光刻机的对准。5.显影显影就是用显影液...2018-06-07 08:41:19
  • Nikon光刻机对准机制和标记系统研究较大的差别,有自己的特色。在Nikon系列光刻机的对准方案中,用到三类对准标记:对版标记、硅片粗对标记和硅片精对标记。此外,还有与各类标记相对应的传...2018-01-31 09:33:17
  • 光刻基本操作步骤”)HOW MANY WAFERS = _1_待片子上到载片台后,手动对准标记进行曝光,显影,检验,确认无误后,对硅片继续进行曝光曝光时间确定表显影...2017-10-25 09:31:42
  • URE-2000/25型光刻机操作说明以及特性介绍m。对于薄胶(胶厚小于 5?m) ,通过监视器可以同时看 到掩模和硅片对准标记,可直接通过计算机监视器,调节对准工件台进行 对准。对于厚胶,首先通过...2017-10-24 11:32:15
  • 光刻机的简单介绍大倍率的目镜和物镜供用户组合使用)。CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上。工件台顾名思义就是放工件的平台,光刻工艺最主要的...2016-04-18 11:54:16
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