站内搜索

首页 > 站内搜索 > 全站搜索  '关键字: 套刻精度'
  • 光刻工艺介绍装备,评价光刻机性能主要有三个指标。即分辨率(resolution)、套刻精度(overlay)和产率(throughput)。分辨率一般有两种表示...2023-12-21 10:56:32
  • 对准工作原理,这样才能保证每一层图形有正确的相对位置,这称为套刻曝光(简称套刻)。套刻精度是投影光刻机的关键技术指标,而对准精度是影响套刻精度的关键因素。掩模硅...2018-07-27 09:05:43
  • 芯片光刻的流程详解(上)lat进行激光自动对准b、通过对准标志,位于切割槽上。另外层间对准,即套刻精度,保证图形与硅片上已经存在的图形之间的对准。(文章来源:半导体行业观察...2018-07-12 08:36:24
  • Nikon光刻机对准机制和标记系统研究心坐标,最终完成所有曝光前的对准工作。经过以上各步的对准操作,可得到的套刻精度是(某次实测值),X方向3a值为0.078Km,Y方向0.082um,...2018-01-31 09:33:17
上一页1下一页 转至第