- 工艺参数选择对石英玻璃刻蚀性能的研究EMS制备中占据了重要的作用。Nakanishi等采用46%的氢氟酸作为刻蚀剂制备出玻璃材质的电泳芯片。玻璃材料由于其自身特性，它没有电荷的自由移动...2023-12-26 10:28:25
- 光刻技术图形转移工艺三：芯片刻蚀光刻和刻蚀是两个不同的加工工艺，但因为这两个工艺只有连续进行，才能完成真正意义上的图形转移，而且在工艺线上，这两个工艺经常是放在同一工序，因此，有时也将这...2018-06-07 08:49:02
- 微流控芯片加工：PDMS软刻蚀技术和聚合物成型介绍同类型的芯片各有不同的加工方法。本文主要介绍PDMS芯片加工的软光刻/软刻蚀技术（soft lithography technique）和聚合物成型...2017-12-28 09:32:10
- 基于电化学刻蚀与微电铸工艺微电铸工艺中铸层与基底结合力差的问题，在光刻工艺的基础上，采用掩膜电化学刻蚀和微电铸相结合的方法，制作出了结合力较好的镍基双十字微流控芯片模具。针对...2017-10-10 08:38:48
- 刻蚀工艺：干法刻蚀和湿法刻蚀刻蚀工艺刻蚀，是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的基本目的，是在涂胶(或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。 ...2017-08-23 16:26:42
- MEMS湿法刻蚀和干法刻蚀的比较。这个腐蚀步骤之后，通常采用去离子水漂洗和随后的掩膜材料的移除工艺。干法刻蚀的刻蚀剂是等离子体，是利用等离子体和表面薄膜反应，形成挥发性物质，或直接...2016-12-13 10:05:25
- 光刻工艺与刻蚀技术的研究此透明薄膜可作为光刻用的掩模，基本能满足微流控分析芯片对掩模的要求。湿法刻蚀在光刻过的基片上可通过湿刻和干刻等方法将阻挡层上的平面二维图形加工成具有...2016-10-24 09:17:41
- 芯片刻蚀技术中的干法刻蚀技术刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本知道工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。对于芯片刻蚀来说，刻蚀被分为湿法刻蚀和干法刻蚀两...2016-10-17 09:14:25
- 光刻蚀的基本工序通道的制作，起源于制作半导体及集成电路芯片所广泛使用的光刻和蚀刻技术。光刻蚀是用光胶、掩模和紫外光进行微制造，它的工艺成熟，已广泛用于硅、玻璃和石英...2016-09-22 16:02:38
- 微流控芯片制备之微结构的形成|光刻法|模塑法|热压法|激光刻蚀法mer pellets and thermal bonding.4．激光刻蚀法用激光直接在聚合物或玻璃上加热形成微结构...2016-07-14 10:15:30
