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- 光刻工艺与刻蚀技术的研究光刻工艺光刻是用光刻胶、掩模和紫外光进行微制造 ,工艺如下 :(a)仔细地将基片洗净;(b)在干净的基片表面镀上一层阻挡层 ,例如铬、二氧化硅、氮化硅...2016-10-24 09:17:41
- 芯片刻蚀技术中的干法刻蚀技术刻蚀技术不仅是半导体器件和集成电路的基本知道工艺，而且还应用于薄膜电路、印刷电路和其他微细图形的加工。对于芯片刻蚀来说，刻蚀被分为湿法刻蚀和干法刻蚀两...2016-10-17 09:14:25
- 玻璃芯片的刻蚀技术
在基片背面以及边缘贴上胶带纸作为保护层。若观察到除通道外有漏光点（铬层被磨损），也可用胶带纸保护。
将刻蚀液...2015-01-30 15:04:05
- 光刻加工胶，后者称负性光刻胶），使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上，最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上或利用套刻技术形成PDMS芯片。 光刻掩...2024-04-25 12:22:26
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- 微流控粒子分选中圆形微凹槽容纳特性研究（Polydimethylsiloxanes，PDMS），模具由标准光刻蚀技术制作。前人研究中为了使粒子惯性聚焦到直通道两侧平衡位置，宽度一般设置为...2024-03-14 15:32:19
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- 从三方面介绍微流控技术发展及应用工这一步需考虑结构、成本、管道尺寸、能否量产等问题。目前技术有：光刻和刻蚀技术、热压法、模塑法、注塑法、LIGA法（集合光刻、电铸和塑铸）、激光烧蚀...2023-08-16 08:56:15
