- 光刻胶材料大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语，对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上，前期可能还有各种成膜工艺，然后...2018-06-05 08:50:37
- 新型多触发极紫外光刻胶材料UV）光刻一直被认为是下一个可行的光刻方案。然而，在光学系统、掩膜版、光刻胶材料等方面的技术难题阻碍了这一技术的应用。例如，EUV光掩膜系统已经由原来...2017-08-17 11:54:14
- 一文了解SU-8光刻胶个芯片制造工艺的35%，并且耗费时间约占整个芯片工艺的40%-50%。光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4%，市场巨大。因此光刻胶是半导体集成电路制造...2023-07-25 08:58:21
- 数字微流控芯片的基本组成进行了基于介质上电润湿的研究。SU-8光刻胶是近几年应用非常广泛的新型光刻胶材料。由于其具有良好的力学性能、绝缘性能、光学性能、化学性能等特点，可以用...2023-07-07 09:33:36
- 光刻胶成分及用途。光刻胶通常是以薄膜形式均匀覆盖于基材表面。当紫外光或电子束的照射时，光刻胶材料本身的特性会发生改变，经过显影液显影后，曝光的负性光刻胶或未曝光的正性...2017-10-31 17:26:19
- 光刻胶基础知识颗粒大小、显影时的溶胀、电子散射等）。通常正胶的分辨率要高于负胶。2.光刻胶材料光刻胶通常有三种成分：感光化合物、基体材料和溶剂。在感光化合物中有时还...2017-08-21 10:09:09
- 光刻胶成分及其应用料聚在一起的粘合剂，给予光刻胶其机械和化学性质。 光引发剂：光刻胶材料中的光敏成分，对光能发生光化学反应。 添加剂：控制光刻胶材料...2016-11-01 14:31:03
- 如何选购光刻胶？光刻加工工艺中为了图形转移，辐照必须作用在光刻胶上，通过改变光刻胶材料的性质，使得在完成光刻工艺后，光刻版图形被复制在圆片的表面。而加工前，如何选用光刻胶在很大程度上已经决定了光刻的精度。尽管正性胶的分辨力是最...2016-09-30 09:59:46
- 光刻胶的类型和优缺点分析.0之间。对于亚微米图形对比度要大于1。通常正胶对比度要大于负胶。三、光刻胶材料光刻胶材料通常有三种成分：感光化合物、基体材料和溶剂。在感光化合物中优...2016-08-23 10:12:23
