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光刻工艺的应用行业

  1. 晶体三极管、二极管、电容、电阻和金属层的各种物理部件在晶圆表面或表层内构成。
  2. 光刻生产的目标是根据电路设计的要求,生成尺寸精确的特征图形 光刻是所有四个基本工艺中最关键的。
  3. 光刻确定了器件的关键尺寸。光刻过程中的错误可造成图形歪曲或套准不好,最终可转化为对器件的电特性产生影响。图形的错位也会导致类似的不良结果。
  4. 光刻工艺中的另一个问题是缺陷。光刻是高科技版本的照相术,只不过是在难以置信的微小尺寸下完成。
  5. 在制程中的污染物会造成缺陷。事实上由于光刻在晶圆生产过程中要完成5层至20层或更多,所以污染问题将会放大。

标签:  光刻工艺 应用行业 光刻机
手持式PDMS打孔器