光刻胶成分及其应用

光刻胶的组成

       光固化材料、光刻胶虽然都是由光引发剂（或光敏剂）、树脂、单体（或活性稀释剂）三种主要化学品原料和其他助剂组成的，但光刻胶需要使用专用的化学品原料。光刻胶是成像材料，和光固化材料相比，用途不同，使用的曝光光源和光能不同，反应机理不完全相同，对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同，各类光刻胶使用的光引发剂、树脂、单体等原料需要化学结构不同、性能各异的专用化学品。而且光刻胶用于加工制作非常精细的图形线路，对原材料的纯度、杂质、金属离子含量等有非常高的要求。光刻胶种类非常多，根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。基于光刻胶的化学结构，可以分为三种类型：光聚合型、光分解型、光交联型。光刻胶经过几十年不断的发展和进步，应用领域不断扩大，衍生出非常多的种类，不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等要求性能不同，对于原材料的性能要求也不一样。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊，要求不同品质等级的专用化学品。

光刻胶的成分

      溶剂：使光刻胶具有流动性，易挥发，对于光刻胶的化学性质几乎没有影响。

      树脂：惰性的聚合物，用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂，给予光刻胶其机械和化学性质。

      光引发剂：光刻胶材料中的光敏成分，对光能发生光化学反应。

      添加剂：控制光刻胶材料特殊方面的化学物质，用来控制和改变光刻胶材料的特定化学性质光响应特性。

光刻胶应用分类

产品应用介绍

产品应用介绍——印刷线路板干膜工艺

产品应用介绍——LCD彩色滤光片工艺（一）

经过300道以上的制程产生

    TFT-LCD必须在精密的无尘室内，经过300道以上的制程生产出来。无尘室内的洁净度，最高等级可达[10]，即是在无尘室环境内，每立方尺只有10颗粉尘。

产品应用介绍——LCD彩色滤光片工艺（二）

产品应用介绍——集成电路光刻工艺