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光刻胶成分及其应用

光刻胶的组成

       光固化材料、光刻胶虽然都是由光引发剂(或光敏剂)、树脂、单体(或活性稀释剂)三种主要化学品原料和其他助剂组成的,但光刻胶需要使用专用的化学品原料。光刻胶是成像材料,和光固化材料相比,用途不同,使用的曝光光源和光能不同,反应机理不完全相同,对于材料的溶解性、耐蚀刻性、感光性能、耐热性等要求不同,各类光刻胶使用的光引发剂、树脂、单体等原料需要化学结构不同、性能各异的专用化学品。而且光刻胶用于加工制作非常精细的图形线路,对原材料的纯度、杂质、金属离子含量等有非常高的要求。光刻胶种类非常多,根据其化学反应机理和显影原理,可分负性胶和正性胶两类。基于光刻胶的化学结构,可以分为三种类型:光聚合型、光分解型、光交联型。光刻胶经过几十年不断的发展和进步,应用领域不断扩大,衍生出非常多的种类,不同用途的光刻胶曝光光源、反应机理、制造工艺、成膜特性、加工图形线路的精度等要求性能不同,对于原材料的性能要求也不一样。因此每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上都比较特殊,要求不同品质等级的专用化学品。

光刻胶的成分

      溶剂:使光刻胶具有流动性,易挥发,对于光刻胶的化学性质几乎没有影响。

      树脂:惰性的聚合物,用于把光刻胶中的不同材料聚在一起的粘合剂,给予光刻胶其机械和化学性质。

      光引发剂:光刻胶材料中的光敏成分,对光能发生光化学反应。

      添加剂:控制光刻胶材料特殊方面的化学物质,用来控制和改变光刻胶材料的特定化学性质光响应特性。

光刻胶应用分类

应用领域

使用的光刻胶类型

印制电路板

干膜光刻胶、湿膜光刻胶、阻焊油墨光刻胶等

液晶显示器

TFT-LCD光刻胶、彩色滤光片用彩色光刻胶、黑色光刻胶、LCD衬垫料光刻胶等

半导体集成电路

g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶、聚酰亚胺光刻胶、掩模版光刻胶等

其他用途

CCD摄像头彩色滤光片的彩色光刻胶、触摸屏透明光刻胶、MEMS光刻胶、生物芯片光刻胶等

产品应用介绍

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产品应用介绍——印刷线路板干膜工艺

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产品应用介绍——LCD彩色滤光片工艺(一)

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经过300道以上的制程产生

    TFT-LCD必须在精密的无尘室内,经过300道以上的制程生产出来。无尘室内的洁净度,最高等级可达[10],即是在无尘室环境内,每立方尺只有10颗粉尘。

产品应用介绍——LCD彩色滤光片工艺(二)

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产品应用介绍——集成电路光刻工艺

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标签:   光刻胶
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