- Q&A：微流控芯片加工中遇到的一些常见问题：光刻胶匀胶后褶皱属于人为操作不当引起的非正常现象。主要原因由胶层不平，烘胶后受热不均等因素引起。可通过优化匀胶和烘胶流程避免。Q：不同底版的键合有...2017-03-17 14:26:10
- 汶颢微流控芯片辅助设备一览时间设定： 0-3000 sec/step;时间设置精度：0.1sec。烘胶台升温快，温度范围在室温-400℃，温差 ±0.1℃；烘胶采用温控仪PI...2017-01-10 15:29:37
- 微流控芯片加工过程中用到的仪器设备基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。烘胶机：用于光刻工艺中的前烘和坚膜。在烘胶台商烘干硅片，去除硅片上的水蒸气，...2016-12-05 14:58:36
- 微流控芯片实验室组建需要哪些设备机床真空热压机光学显微镜匀胶机恒温鼓风干燥箱激光切割机等离子清洗机台阶仪烘胶台批量注塑机超声波打孔机真空气氛电炉膜厚仪摇床台式打孔器精密高速钻床超净...2016-11-25 15:13:51
- 微流控芯片加工实验室组建数控机床真空热压机光学显微镜匀胶机真空脱泡机激光切割机等离子清洗机台阶仪烘胶台批量注塑机超声波打孔机马弗炉膜厚仪摇床台式打孔器钻床切割机CCD通风橱...2016-11-08 08:58:30
- 微流控芯片加工需要哪些设备?设备，控制产品尺寸精准，表面粗糙度微小，能够满足要求较高的实验需求。四、烘胶设备主要用于光刻工艺中的前烘和坚膜。五、匀胶设备主要用于光刻匀胶工序，在...2016-10-19 10:49:04
- 汶颢芯片为您详细讲解微流控芯片加工仪器、匀胶机汶颢芯片“KW-4A匀胶机”，主要用于光刻工艺中光刻胶旋涂。3、烘胶机汶颢芯片的“BP-2B烘胶机”，此种烘胶台，主要用于光刻工艺中的前烘和...2016-09-29 10:35:16
- 微流控芯片单层模具加工工艺光机功率及光刻胶所需曝光计量设定曝光时间，进行曝光；曝光后，取出模板放置烘胶台，根据光刻胶性能确定中烘时间，进行中烘处理。五、显影冷却后放入显影液中...2016-04-29 14:44:58
- 微流控PDMS芯片加工工艺片进行最后检察，结束制作。整理加工台面。 注：所需仪器：电热板、匀胶机、烘胶台；耗材：光刻胶、显影液、硅片等。注：上文中提及的相关仪器：真空脱泡搅拌...2016-04-26 16:45:13
