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  • 如何为SU-8模具选择合适的光刻热板模具。2.热板和SU-8光刻胶的光刻热板,英文叫hot plate,又称烘胶机、烤胶机、烘胶台,适应于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻璃...2019-03-22 10:48:29
  • 微流控液滴软模板制备二氧化钛中空微球显色反应对其光催化性能进行了初步评价。1实验部分1.1仪器与试剂均胶机、烘胶机、紫外曝光机、等离子体清洗器、倒置激光诱导荧光显微镜、彩色电荷耦合器件...2018-09-14 09:03:01
  • 光刻技术图形转移工艺二:光刻材料及设备由晶圆片转速和胶的浓度来控制。要求厚度适当,膜层均匀,粘附良好。3.前烘烘胶台涂胶完成后,仍有一定量的溶剂残存在胶膜内,若直接曝光,会影响图形的尺寸...2018-06-07 08:41:19
  • 汶颢股份:2018年世界生化、分析仪器与实验室装备中国展展览中心拉开帷幕。汶颢股份携手汶颢“智”造微反应器、微流控芯片、匀胶机、烘胶台、离心进样仪、注射泵等产品参会。汶颢股份产品吸引了诸多国内外客户的广泛...2018-04-17 10:27:41
  • 软光刻技术:SU-8涂层ps:汶颢提供微流控芯片模具及软光刻相关设备,如匀胶机(又叫旋涂机等)、烘胶台、SU-8系列光刻胶及显影液产品和相关技术输出服务。在软光刻技术中,通...2018-03-16 09:26:49
  • 光刻工艺所需药品及设备与操作步骤胶)、显影液:5‰ 氢氧化钠溶液、甲醇、蒸馏水、丙酮。实验仪器:匀胶机、烘胶台、光刻机、真空泵、气泵。二.光刻工艺实验步骤 1.清洁硅片:去离子水和...2017-12-21 08:48:35
  • 微流控芯片加工常用仪器设备、耗材及配件一、微流控芯片加工设备1、PDMS芯片加工设备:匀胶机、烘胶台、光刻机、真空干燥箱、PDMS打孔机、PDMS切割机、WH-AM-01 微流控芯片对准平台、等离子清洗机。2、玻璃芯片加工设备:匀胶机、烘胶台...2017-10-10 08:48:08
  • 光刻胶模具加工工艺性光刻胶光刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有:匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有:单晶硅片、掩膜、光刻胶、显影液...2017-10-09 17:14:32
  • 微纳加工- 玻璃芯片刻蚀片图为:切割片微流控玻璃芯片加工使用仪器有:匀胶机、紫外光刻胶、恒温烘胶台、摇床等。微流控玻璃芯片加工使用到的试剂与耗材有:铬版玻璃、掩膜、正性...2017-10-09 16:38:00
  • Q&A:微流控芯片加工中遇到的一些常见问题:光刻胶匀胶后褶皱属于人为操作不当引起的非正常现象。主要原因由胶层不平,烘胶后受热不均等因素引起。可通过优化匀胶和烘胶流程避免。 Q:不同底版的芯片...2017-08-17 13:46:04