- 中国科学院光电技术研究所研制出实用深紫外光刻机学院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner），光刻分辨力达到500nm。 光刻机因使...2017-07-28 16:03:16
- 紫外光刻机的工作条件
紫外线光刻机是 印制板制造工艺中的重要设备。传统光刻机的玻璃-迈拉晒架在生产过程中需要人工赶气,迈拉膜需要经常更换。由于冷却系统过...2015-01-30 16:02:14
- 基于流动聚焦微流控芯片的液晶微滴制备及传感响应分析了微滴尺寸对检测性能的影响。实验仪器与试剂URE-2000 / 25 紫外光刻机；微注射泵；数显鼓风干燥箱；等离子清洗仪；真空干燥箱；水浴锅；电子天平...2023-12-29 11:00:24
- 基于液滴微流体的微流控芯片系统的研究s 压力泵、硅片、SU-82025光胶、等离子清洗机、匀胶机、加热台、紫外光刻机、微流控芯片、PDMS实验过程：液滴微流控芯片整合控制系统的搭建 激光...2023-11-14 10:18:22
- 处于中国军民担忧中的芯片制造机器。这种带有数十亿或数万亿个晶体管的晶片最终会被制成计算机芯片。国产双面紫外光刻机一台EUV机器由超过10万个部件组成，成本约为1.2亿美元，装在40个...2022-12-01 10:59:39
- 一文看懂光刻机刻机使用的则是波长 13.5nm 的极紫外光。 早在上世纪九十年代，极紫外光刻机的概念就已经被提出， ASML 也从 1999 年开始 EUV 光刻机...2018-05-16 08:59:54
- 液滴微流控芯片系统中微液滴特性表征及氨基酸检司；匀胶机购自中国科学院微电子研究所；加热台购自谊华电子设备有限公司；紫外光刻机购自中国科学院光电技术研究所；微流控芯片为自制PDMS芯片，PDMS购...2018-01-17 09:29:56
- URE-2000B型光刻机产品名称：
中国光电URE-2000B型光刻机URE-2000B型紫外光刻机主要技术特点： 该机采用i线紫外曝光光源，光学系统采用特殊的消衍...2017-10-30 16:34:18
- SU-8光刻胶光刻工艺光刻胶进行前烘处理,在热板上缓慢冷却4) 在Karl Suss MA6紫外光刻机上进行接触式曝光5) 对曝光后的SU-8光刻胶在热板上进行后烘热处理，...2017-10-09 17:36:09
- 光刻胶模具加工工艺刻到硅阳模。2.光刻胶模具使用的仪器及耗材仪器设备有：匀胶机、烘胶台、紫外光刻机、数显恒温电热板等。耗材有：单晶硅片、掩膜、光刻胶、显影液 3.光刻胶...2017-10-09 17:14:32
