- 掩膜版清洗方法和注意事项光刻掩模版通常被连续用作几乎每个光刻工艺步骤中。在处理晶圆/样品时，掩膜版通常会变脏。由于光刻过程中我们常用的接触是光刻机需要掩膜版与光刻胶上表面紧密接触...2024-02-28 09:39:58
- 光刻工艺介绍额继续增长。市场上比较常见的硅片加工工艺都需要20块以上，甚至更多不同的掩模版，一些复杂的工艺可以有多达30个掩模。通常根据生产非常细的管线的能力来预...2023-12-21 10:56:32
- 细说接触式光刻机的使用原理及性能指标.1 gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5 gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要复制到衬底上的所有芯片阵列图形。在衬底上涂上光刻胶，并被安装到一...2023-08-04 08:55:03
- 一文了解SU-8光刻胶刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩（掩模版）转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，...2023-07-25 08:58:21
- SU-8显影液光过的光刻胶已交联形成网状聚合物，因此显影液对它基本没有溶解作用，形成与掩模版相反的微结构图形。实验室用户使用建议：显影操作请在通风橱内进行。假如用户...2023-06-29 11:57:03
- 光刻机——现代光学工业之花器：检测光束最终入射能量是否符合曝光要求，并反馈给能量控制器进行调整。 掩模版：一块在内部刻着线路设计图的玻璃板，贵的要数十万美元。 掩膜台：承载掩模...2022-11-17 09:58:03
- 基于微流控技术的磁性微液滴制备方法粒径。图1 微液滴生成区域微流道结构设计示意图微流控芯片制备工艺所需模具掩模版的制作示意图如图2（a）所示。采用双电子束蒸发镀膜设备在石英玻璃表面镀一...2022-08-24 16:28:53
- SU-8显影液使用注意事项光过的光刻胶已交联形成网状聚合物，因此显影液对它基本没有溶解作用，形成与掩模版相反的微结构图形。实验室用户使用建议：显影操作请在通风橱内进行。假如用户...2020-05-09 16:11:10
- 一种细胞培养微芯片的制作及应用min然后升温至95oC保持2min,缓慢降温至室温。在光刻机中将第一层掩模版与硅片对准,曝光,然后对基片进行PEB(Postexposedbake,...2019-03-01 10:26:37
- 对准工作原理需要进行多次曝光才能制作完成，即每次曝光或者说每曝光一层图形都需要用一块掩模版，而每一块掩模版在曝光前都需要和前面已曝光的图形进行对准后才能曝光，这样...2018-07-27 09:05:43
