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  • SU-8光刻胶模具会用到模具,尤其是在PDMS芯片加工的过程中。PDMS芯片加工通常采用软光刻技术来制作。为了执行PDMS软光刻技术的加工过程,通常需要用到模板,最常...2024-03-29 19:03:04
  • 光刻加工光刻技术图形转移工艺光刻工艺(Photoetching or Lithography)是一种图像复印技术,利用光刻胶感光后特性发生改变的原理,将光刻掩...2024-03-29 19:03:04
  • Microchem SU-8光刻胶 2000系列SU 8光刻胶系列产品简介新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,...2024-03-28 10:07:48
  • SU-8光刻胶2000系列,是国内第一款自主研发的厚胶       光刻胶1959年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶改进运用到印制电路板的制造工艺,成为 PCB 生产的重要材料。二十世纪九十年...2016-09-23 16:05:41
  • AZ 9260 光刻AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻...2024-03-28 10:31:40
  • AZ 50XT 光刻AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。光刻胶产品型号及参数光刻...2024-03-28 10:30:59
  • AZ 5214E 光刻AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。AZ光刻胶特点:适用于高分辨率工艺(lift-off工艺)适用于正/负图形很宽的膜厚范围AZ光刻胶工艺条...2024-03-28 10:29:49
  • AZ P4620 光刻AZ光刻胶刻蚀厚度从1μm到150μm以及更厚。高感光度,高产出率;高附着性,特别为湿法刻蚀工艺改进;广泛应用于全球半导体行业。AZ光刻胶特点:高对比度...2024-03-28 10:29:14
  • 光刻SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝...2024-03-28 10:18:53
  • 进口 Microchem SU-8 光刻胶 2000系列 100-150Microchem SU 8光刻胶系列产品简介新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,...2024-03-28 10:12:32
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